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J-GLOBAL ID:201902299612316151   整理番号:19A0076677

すれすれ入射における飛行時間中性子リフレクトグラムのHadamard符号化【JST・京大機械翻訳】

Hadamard coding of time-of-flight neutron reflectogram at grazing incidence
著者 (5件):
資料名:
巻: 551  ページ: 426-430  発行年: 2018年 
JST資料番号: H0676B  ISSN: 0921-4526  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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すれすれ入射では,中性子は平坦な滑らかな表面によって反射される。中性子反射率は,埋め込まれた層と薄膜の界面の正確で非破壊的な解析のための有望なツールとして知られている。一方,不均一試料の研究は,非常に薄い膜で行われる場合が多いが,主に,大きな強度損失なしに小さな中性子ビームを得ることが困難であるため,大きな課題である。本研究は,任意のマイクロビームおよび/または高分解能位置敏感中性子検出器を使用することなく,中性子反射率の空間分解能を提供するための代替的な効率的な方法を検討した。中性子の伝搬方向に沿ったすれすれ入射での射影である反射率を,Hadamard符号化マスクと3He検出器のような通常の点検出器を用いて得ることができることを初めて実証した。これは,中性子反射率イメージングが面内回転角の関数として更なる反射率を収集することにより実現されることを示唆する。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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半導体薄膜 
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