特許
J-GLOBAL ID：201903002963129969
検査装置および検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
関口 正夫
, 仲野 孝雅
, 祐成 篤哉
, 大阿久 敦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-010605
公開番号（公開出願番号）：特開2017-130611
特許番号：特許第6596341号
出願日： 2016年01月22日
公開日（公表日）： 2017年07月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被検査対象の基板に形成されたパターンを検査する検査装置であって、
複数のプローブと、
電流の流れによって発生した磁場を測定する磁気センサと、
検査項目を選択する検査内容選択部と、
前記パターンの設計データを読み出し、前記検査内容選択部で選択された検査項目に基づき、前記基板における被検査位置を絞り込んで前記被検査位置を含む所定単位の領域を被検査領域として抽出する不良解析位置絞り込み処理部と、
前記被検査位置に基づいて、前記複数のプローブから検査に用いるプローブを選択するプローブ選択部と、
前記プローブ選択部で選択されたプローブが前記パターンに接触するように前記選択されたプローブの駆動を制御し、且つ、前記不良解析位置絞り込み処理部で抽出された前記被検査領域上を前記磁気センサが走査するように前記磁気センサの駆動を制御する位置補正部と、
前記選択されたプローブの接触により前記パターンに電流が流れて発生する磁場のうち、前記被検査領域上を走査する前記磁気センサによって測定された磁場を分布化する磁場分布取得部と、
前記磁場分布取得部で取得された磁場分布を所定単位で画像化して検査画像を作成する検査画像作成部と、
前記検査画像と、前記パターンの設計データから作成された比較画像とを比較して、前記パターンの欠陥を検出する画像比較部と、
を有することを特徴とする検査装置。
IPC (3件)：
H01L 21/66 ( 200 6.01)
, G01R 33/10 ( 200 6.01)
, H05K 3/00 ( 200 6.01)
H01L 21/66 C
, H01L 21/66 S
, G01R 33/10
, H05K 3/00 V
