イオン比を調整するためのプラズマ発生器および方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人ナガトアンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-508635
特許番号：特許第6581291号
出願日： 2016年07月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマ発生器(1)であって、プロセスガスのイオン化に適した1つの圧電トランス(2)と、 1つのイオン分離電極(7)と、前記イオン分離電極(7)に1つの電位を印加するのに適した1つの制御回路(8)と、を備え、前記プラズマ発生器(1)は、1つのプロセスガスによって貫流されるために適しており、当該プロセスガスは、前記圧電トランス(2)によってイオン化され、そして続いて前記イオン分離電極(7)を通って導かれ、前記圧電トランス(2)は、1つの端面を備え、当該端面に生成される高電圧によってプロセスガスを直接イオン化するように構成されている、ことを特徴とするプラズマ発生器。

IPC (1件)：