特許
J-GLOBAL ID：201903005044285546

二酸化炭素の水素化に用いる触媒、ギ酸製造方法、水素の貯蔵方法

発明者：
姫田 雄一郎

姫田 雄一郎 について

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尾西 尚弥

尾西 尚弥 について

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兼賀 量一

兼賀 量一 について

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村田 和久

村田 和久 について


出願人/特許権者：
国立研究開発法人産業技術総合研究所

国立研究開発法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-104867
公開番号（公開出願番号）：特開2018-199103
出願日： 2017年05月26日
公開日（公表日）： 2018年12月20日
要約：
【課題】高効率な二酸化炭素の水素化によるギ酸等製造用触媒の提供。【解決手段】式(1)で表される金属錯体等を有効成分とする、二酸化炭素水素化によるギ酸等の製造触媒。[MはIr等;Lは芳香族性配位子等;Jは任意の配位子であるか存在せず;XiはN、C、X1及X2は単結合又は二重結合;Qiは、Xiと単結合で結合する場合、H、アルキル基等、QiがXiと二重結合で結合する場合、Qiは酸素(=O)等;Q1とQ2が環を形成しても良く;ZはO又はS;TはH又は任意の置換基;nは0以上の整数。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
一般式(1)で表され、二座配位子(X1-X2-C(=Z)-N-T)のX1と窒素(N)で配位した金属錯体、その異性体、または塩を有効成分として含む、二酸化炭素の水素化によるギ酸および/またはギ酸塩を製造するための触媒。
IPC (7件)：
B01J 31/22 ,  C07C 53/02 ,  C07C 51/00 ,  C07D 213/81 ,  C07D 233/66 ,  C07D 307/56 ,  C07D 333/38
FI (7件)：
B01J31/22 Z ,  C07C53/02 ,  C07C51/00 ,  C07D213/81 ,  C07D233/66 ,  C07D307/56 ,  C07D333/38
Fターム (60件)：
4C023HA02 ,  4C055AA01 ,  4C055BA02 ,  4C055BA03 ,  4C055BA42 ,  4C055BA58 ,  4C055CA01 ,  4C055DA01 ,  4C055GA02 ,  4G169AA06 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC73A ,  4G169BC74A ,  4G169BC74B ,  4G169BC75A ,  4G169BE01A ,  4G169BE01B ,  4G169BE02A ,  4G169BE02B ,  4G169BE04A ,  4G169BE04B ,  4G169BE06A ,  4G169BE06B ,  4G169BE08A ,  4G169BE10A ,  4G169BE13A ,  4G169BE14A ,  4G169BE14B ,  4G169BE15B ,  4G169BE20A ,  4G169BE20B ,  4G169BE21A ,  4G169BE22A ,  4G169BE33A ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE38A ,  4G169BE38B ,  4G169CB02 ,  4G169CB74 ,  4G169DA02 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB99 ,  4H006AC46 ,  4H006BA22 ,  4H006BA23 ,  4H006BA47 ,  4H006BE20 ,  4H006BE41 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CB20
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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