特許
J-GLOBAL ID:201903006002273196
コバルト完全接触触媒を使用して第一級アミンを製造する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 森田 拓
, 前川 純一
, 二宮 浩康
, 上島 類
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-228757
公開番号(公開出願番号):特開2019-038854
出願日: 2018年12月06日
公開日(公表日): 2019年03月14日
要約:
【課題】本発明は、コバルト含有触媒を使用して相応するニトリルから第一級アミンを製造する、新たな方法を提供することである。【解決手段】少なくとも1種のニトリルを装置(V1)にてコバルト完全接触触媒の存在下で水素化して、少なくとも1種の第一級アミンを獲得することを特徴とする、第一級アミンの製造方法に関し、ここで少なくとも1種の化合物(I)が、繰り返し又は連続的に装置(V1)に添加され、化合物(I)が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又は希土類金属から選択される少なくとも1種の成分を含有する第一級アミンを製造する方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第一級アミンを製造する方法において、少なくとも1種のニトリルを装置(V1)にてコバルト完全接触触媒の存在下で水素化して、少なくとも1種の第一級アミンを獲得し、ここで少なくとも1種の化合物(I)が、繰り返し又は連続的に装置(V1)に添加され、化合物(I)が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又は希土類金属から選択される少なくとも1種の成分を含有することを特徴とする前記方法。
IPC (3件):
C07C 209/48
, C07C 211/09
, B01J 27/187
FI (3件):
C07C209/48
, C07C211/09
, B01J27/187 Z
Fターム (63件):
4G169AA02
, 4G169AA03
, 4G169AA09
, 4G169BB04A
, 4G169BB05A
, 4G169BB05B
, 4G169BB05C
, 4G169BC01A
, 4G169BC02B
, 4G169BC03A
, 4G169BC04A
, 4G169BC04B
, 4G169BC04C
, 4G169BC06A
, 4G169BC08A
, 4G169BC22A
, 4G169BC35A
, 4G169BC39A
, 4G169BC40A
, 4G169BC41A
, 4G169BC50A
, 4G169BC58A
, 4G169BC59A
, 4G169BC62A
, 4G169BC62B
, 4G169BC66A
, 4G169BC67A
, 4G169BC67B
, 4G169BC68A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BD07A
, 4G169BD07B
, 4G169CB06
, 4G169DA06
, 4G169EA02Y
, 4G169EA03Y
, 4G169EA04Y
, 4G169EA06
, 4G169EB18Y
, 4G169EC02X
, 4G169EC02Y
, 4G169FA01
, 4G169FA08
, 4G169FB30
, 4G169FC04
, 4G169FC08
, 4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006BA03
, 4H006BA20
, 4H006BA29
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BD36
, 4H006BD52
, 4H006BE20
, 4H039CA71
, 4H039CB30
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (2件)
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触媒工学講座10元素別触媒便覧, 19670225, 第528〜530頁
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触媒工学講座10元素別触媒便覧, 19670225, 第528〜530頁
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