特許
J-GLOBAL ID：201903006683627756
蒸着マスクの製造方法及び製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
板谷 康夫
, 板谷 真之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-508354
特許番号：特許第6449521号
出願日： 2016年07月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 所定の位置に1又は複数の開口が形成された金属フィルム層の一方の面に樹脂フィルム層が配置された蒸着マスク素材を形成する工程と、
前記蒸着マスク素材に対して所定の方向に所定の張力を掛けた状態で、前記樹脂フィルム層を外側にして前記金属フィルム層を金属フレームに溶接する工程と、
前記金属フレームの内側の前記金属フィルム層と対向する位置に、前記樹脂フィルム層に形成される貫通孔の周囲に前記金属フィルム層の側の寸法が大きくなるようにテーパーを形成するためのテーパー形成部材/材料を配置する工程と、
前記樹脂フィルム層の上方に前記貫通孔を形成するためのレーザー加工用マスクを配置する工程と、
前記レーザー加工用マスクを介して、前記樹脂フィルム層にレーザー光を照射し、前記樹脂フィルム層に前記貫通孔を形成する工程を備え、
前記レーザー光を前記樹脂フィルム層に照射することによって前記樹脂フィルム層に前記貫通孔が形成された後、前記貫通孔を通過したレーザー光と前記テーパー形成部材/材料が反応し、それによって生じる物理現象によって、前記貫通孔の周囲にテーパーが形成されることを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, C23C 14/04 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
H05B 33/10
, C23C 14/04 A
, H05B 33/14 A
, C23C 14/24 G
