特許
J-GLOBAL ID:201903007635455648

ガス放出ロール及びその製造方法並びにガス放出ロールを用いた処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 上田 章三 ,  小泉 雅裕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-098645
公開番号(公開出願番号):特開2019-203171
出願日: 2018年05月23日
公開日(公表日): 2019年11月28日
要約:
【課題】ガンドリル加工を用いることなく、外周面近傍に軸方向に延びる複数のガス導入路を全周に亘って形成でき、しかも、熱負荷に対する冷却性能を良好に保つ。【解決手段】端部に回転軸を有する金属製のインナロール2と、インナロール2の外周面に嵌着して一体化される円筒状の金属製のアウタロール3と、インナロール2の外周面全周に当該インナロール2の円周方向に沿って略均等な間隔をあけ且つインナロール2の回転軸方向に沿って延びるように形成され、アウタロール3の内周面との間にガス導入路5を区画するガス導入用溝4と、ガス導入路5に貫通するようにアウタロール3に形成されるガス放出孔6群と、を備え、ガス導入路断面の円周遮断率Aが36%以下、あるいは、ガス導入範囲の空隙率Bが20%以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
端部に回転軸を有する金属製のインナロールと、 前記インナロールの外周面に嵌着して一体化される円筒状の金属製のアウタロールと、 前記インナロールの外周面全周に当該インナロールの円周方向に沿って略均等な間隔をあけ且つ前記インナロールの回転軸方向に沿って延びるように形成され、前記アウタロールの内周面との間にガス導入路を区画するガス導入用溝と、 前記ガス導入路に貫通するように前記アウタロールに形成されるガス放出孔群と、を備え、 以下に定義するガス導入路断面の円周遮断率Aが36%以下であることを特徴とするガス放出ロール。 但し、ガス導入路断面の円周遮断率A=(ガス導入路断面の円周方向の最大幅×ガス導入路本数)/(ガス導入路断面の円周方向の最大幅位置を過る最小径円周長)
IPC (2件):
C23C 14/56 ,  F16C 13/00
FI (3件):
C23C14/56 D ,  F16C13/00 A ,  F16C13/00 B
Fターム (16件):
3J103AA02 ,  3J103AA14 ,  3J103AA15 ,  3J103AA46 ,  3J103BA13 ,  3J103FA01 ,  3J103GA02 ,  3J103GA52 ,  3J103HA02 ,  3J103HA31 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029CA05 ,  4K029DA05 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03
引用特許:
審査官引用 (3件)

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