特許
J-GLOBAL ID：201903008808494276

膜の製造方法

発明者：
小林 諭

小林 諭 について

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安立 誠

安立 誠 について

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白崎 美佳

白崎 美佳 について

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早坂 裕之

早坂 裕之 について

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佐々田 敏明

佐々田 敏明 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-141011
公開番号（公開出願番号）：特開2019-040857
出願日： 2018年07月27日
公開日（公表日）： 2019年03月14日
要約：
【課題】発光素子の発光層に用いたときに外部量子効率に優れる膜の製造方法を提供する。【解決手段】所定の金属錯体と、有機溶媒とを含有するインクを調製するインク調製工程と、インク調製工程で調製したインクを遮光下において3日間以上保管するインク保管工程と、インク保管工程で保管され、所定の金属錯体の液体クロマトグラフィーにより求められる面積百分率値による含有量を100としたとき、所定の金属錯体より分子量が16、32又は48大きい金属錯体の液体クロマトグラフィーにより求められる面積百分率値による合計含有量が0.6以下であるインクを用いて、塗布法により膜を形成する膜形成工程とを含む、膜の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(1-A)又は式(1-B)で表される金属錯体と、有機溶媒とを含有するインクを調製するインク調製工程と、 前記インク調製工程で調製したインクを遮光下において3日間以上保管するインク保管工程と、 前記インク保管工程で保管され、前記式(1-A)又は式(1-B)で表される金属錯体の液体クロマトグラフィーにより求められる面積百分率値による含有量を100としたとき、前記式(1-A)又は式(1-B)で表される金属錯体より分子量が16、32又は48大きい金属錯体の液体クロマトグラフィーにより求められる面積百分率値による合計含有量が0.6以下であるインクを用いて、塗布法により膜を形成する膜形成工程とを含む、 膜の製造方法。
IPC (6件)：
H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C09K 11/06 ,  C09D 11/00 ,  C08L 101/02 ,  C08K 5/56
FI (6件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 B ,  C09K11/06 660 ,  C09D11/00 ,  C08L101/02 ,  C08K5/56
Fターム (33件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107CC04 ,  3K107DD64 ,  3K107DD67 ,  3K107DD69 ,  3K107DD70 ,  3K107FF14 ,  3K107FF17 ,  3K107FF18 ,  3K107GG06 ,  3K107GG56 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB92 ,  4H050WB11 ,  4H050WB14 ,  4H050WB21 ,  4J002AA031 ,  4J002CE001 ,  4J002EZ006 ,  4J002GH00 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA05 ,  4J039BC59 ,  4J039CA04 ,  4J039EA27 ,  4J039EA44 ,  4J039FA01 ,  4J039FA02 ,  4J039FA04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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