特許
J-GLOBAL ID：201903009038512170
イリジウム錯体化合物の製造方法、及びその製造方法で得られたイリジウム錯体化合物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-096282
公開番号（公開出願番号）：特開2018-150345
特許番号：特許第6566085号
出願日： 2018年05月18日
公開日（公表日）： 2018年09月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 水及び有機溶媒の存在下、ハロゲン化イリジウムと下記式(2)で表される配位子とを
反応させ、下記式(1)で表されるイリジウム錯体化合物を製造する方法において、水及
び有機溶媒の存在下、ハロゲン化イリジウムと下記式(2)で表される配位子とを反応さ
せる際に、蒸留工程を有することを特徴とするイリジウム錯体化合物の製造方法。
[式(1)及び(2)において、Irはイリジウム原子を表し、Dはハロゲン原子を表す
。環Aは、ベンゼン環、カルバゾール環、フルオレン環を表し、環Bは、ピリジン環、ピ
ラジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、オキサゾール環、キノリン環、キナゾリン環
、ベンズチアゾール環、を表す。
前記ベンゼン環、ピリジン環、前記ピラジン環、前記ピリミジン環、前記イミダゾール
環、前記オキサゾール環の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数7〜40の(ヘテロ)アラルキル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基、炭素数3〜20の(ヘテロ)アリールオキシ基、または炭素数
3〜20の(ヘテロ)アリール基で置換されていてもよい。
前記カルバゾール環、前記フルオレン環、前記キノリン環、前記キナゾリン環、前記ベ
ンズチアゾール環、は置換基を有していても良い。]
IPC (3件)：
C07F 15/00 ( 200 6.01)
, C09K 11/06 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
C07F 15/00 E
, C09K 11/06 660
, H05B 33/14 B
