特許
J-GLOBAL ID:201903010487570565
ガス発生装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-557235
特許番号:特許第6616910号
出願日: 2016年12月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 各々が出力ガスを発生するガス発生器(43)を有する複数のガス発生器ユニット(4a〜4f)を備えるガス発生装置であって、
前記複数のガス発生器ユニット間で共有され、前記複数のガス発生器ユニットに複数の交流電圧を供給する多交流電源部(3001,3001C)と、
前記複数のガス発生器ユニット間で共有され、前記複数のガス発生器ユニットが供給する原料ガス、及び、前記複数のガス発生器ユニットが発生する出力ガスを制御するガス制御部(3003,3003B,3003C)とを備え、
前記ガス制御部は、
前記複数のガス発生器ユニットに対応して設けられ、各々が対応するガス発生器ユニットに入力される原料ガスの流量である原料ガス流量を制御する、複数のマスフローコントローラ(MFC)(38a〜38f)と、
前記複数のガス発生器ユニットに対応して設けられ、各々が対応するガス発生器ユニットのガス発生器内の圧力である内部圧力を制御する、複数のオートプレッシャコントローラ(APC)(301a〜301f)と、
前記複数のガス発生器ユニットに対応して設けられ、各々が対応するガス発生器ユニットのガス発生器が出力する出力ガスの濃度を検出濃度として検出する、複数のガス濃度計(39a〜39f)とを含み、
前記ガス発生装置は、
前記多交流電源部に対する交流電力制御動作を実行する交流電源制御部(3002,3002C)をさらに備え、
前記交流電力制御動作は、前記複数の交流電圧に関し、少なくとも、対応するガス濃度計で検出された検出濃度に基づき、対応する交流電圧の電力量を制御する動作を含み、
前記複数のガス発生器ユニット、前記多交流電源部、前記ガス制御部及び前記交流電源制御部が一体的に設けられる、
ガス発生装置。
IPC (1件):
FI (2件):
C01B 13/11 K
, C01B 13/11 Z
引用特許: