特許

J-GLOBAL ID：201903011555399523

リソグラフィ装置及び方法

発明者： オプ ト ロート、ヴィルヘルムス、パトリック、エリザベス、マリア ,  ゴートフリート、ヘルマン、フィリップ ,  ファン バッセル、ヒューベルトゥス、ペトルス、レオナルドゥス、ヘンリカ ,  レイケ、アレイ、ヨナタン ,  ファン デル ウェイスト、マルク、ウィルヘルムス、マリア ,  フェルヘース、マテイス、レオナルドゥス、ヨハン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  青木 武司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-502067
特許番号：特許第6557403号
出願日： 2016年06月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 放射ビームの空間強度分布に関する情報を決定する方法であって、 較正センサを提供することと、 照明システムを用いてパルス放射ビームを提供することと、 パルス放射ビームを基準フレームの面の領域に投影することと、 スキャン機構を用いて、前記較正センサがスキャン軌跡に沿って前記面内で放射ビームを通過するように、前記基準フレームに対して前記較正センサを移動することと、 前記基準フレームに対する前記照明システムの速度を示す量を決定することと、 (a)前記較正センサの出力、(b)前記較正センサのスキャン軌跡、及び(c)前記基準フレームに対する前記照明システムの速度を示す量に基づいて、前記面内の放射ビームの空間強度分布に関する情報を決定することと、 を備えることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G01M 11/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 7/20 521 ,  G01M 11/00 T

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 露光量むらの計測方法及び該計測方法を用いた露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-307751   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-272885   出願人：キヤノン株式会社
• 走査露光方法及び該方法を用いるデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-168954   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法及び露光装置、マスク、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-052515   出願人：株式会社ニコン