成膜装置及び成膜方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：とこしえ特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-559402
特許番号：特許第6531230号
出願日： 2018年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に二酸化ケイ素の成膜を行う二酸化ケイ素成膜工程と、前記二酸化ケイ素成膜工程の後に、真空チャンバー内に水酸基含有気体を予め導入するガス予供給工程と、前記ガス予供給工程の後に、真空チャンバー内に水酸基含有気体を導入するガス供給工程と、前記基板上に薄膜を成膜する成膜工程と、を含み、前記ガス供給工程と前記成膜工程は同時に行われ、前記基板の材料は、ガラス、サファイア、アルミニウム、ステンレススチール、酸化アルミニウム、PET、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロースフィルム(TAC)の内の少なくとも1種を含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：