特許

J-GLOBAL ID：201103088287769219

無機又は無機/有機ハイブリッドバリアフィルムの製造方法

発明者： ブライト,クラーク アイ. ,  リオンズ,クリストファー エス.
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  蛯谷 厚志 ,  出野 知 ,  鈴木 康義
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-516750
公開番号（公開出願番号）：特表2011-526833
出願日： 2009年06月29日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：

基材上に無機又はハイブリッド有機/無機バリア層を形成するための方法。この方法は、蒸発させた金属アルコキシドを基材上に凝縮させて基材の上に層を形成する工程と、この凝縮した金属アルコキシド層を水と接触させてこの層を硬化させる工程とを含む。

請求項（抜粋）：

基材上に無機又はハイブリッド有機/無機層を含むバリアフィルムを形成する方法であって、 前記基材上に第一金属アルコキシド層を形成する工程と、 前記第一金属アルコキシド層を水と接触させて前記層を硬化させる工程と、 を含み、ここで前記無機又はハイブリッド有機/無機層が減圧下で形成される、方法。

IPC (8件)：

B05D 7/24 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/58 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/30 ,  B32B 9/00 ,  B05D 3/10 ,  G02B 1/11

FI (9件)：

B05D7/24 302Z ,  C23C14/12 ,  C23C14/58 ,  C23C16/18 ,  C23C16/30 ,  B32B9/00 A ,  B05D3/10 E ,  B05D3/10 Z ,  G02B1/10 A

Fターム (93件)：

2K009AA02 ,  2K009CC24 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  4D075AE03 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB26Z ,  4D075BB49Y ,  4D075BB49Z ,  4D075BB79Z ,  4D075BB85Y ,  4D075BB93Z ,  4D075CA42 ,  4D075CB02 ,  4D075DA04 ,  4D075DB31 ,  4D075DB48 ,  4D075DC18 ,  4D075DC36 ,  4D075DC38 ,  4D075EA43 ,  4D075EB01 ,  4D075EB22 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EC37 ,  4F100AA00B ,  4F100AA00D ,  4F100AB02B ,  4F100AB02D ,  4F100AB09B ,  4F100AB09D ,  4F100AB10B ,  4F100AB10D ,  4F100AB12B ,  4F100AB12D ,  4F100AB18B ,  4F100AB18D ,  4F100AB19B ,  4F100AB19D ,  4F100AB21B ,  4F100AB21D ,  4F100AB22B ,  4F100AB22D ,  4F100AH08B ,  4F100AH08D ,  4F100AK01C ,  4F100AK01E ,  4F100AK25 ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100EH46D ,  4F100EJ08B ,  4F100EJ08D ,  4F100EJ41B ,  4F100EJ41D ,  4F100EJ61B ,  4F100EJ61D ,  4F100JN00 ,  4F100JN18D ,  4F100YY00B ,  4F100YY00D ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BA62 ,  4K029BA64 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA12 ,  4K029EA08 ,  4K029GA00 ,  4K029GA01 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA24 ,  4K030BA44 ,  4K030BA46 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030DA08 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030GA14 ,  4K030JA10 ,  4K030LA24

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ガスバリア性積層フィルムおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-032844   出願人：大日本印刷株式会社
• ナノ多孔質シリカ上への気相堆積方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-558547   出願人：アライドシグナル・インコーポレイテッド
• 無機薄膜成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-335899   出願人：積水化学工業株式会社