特許

J-GLOBAL ID：201903014205143606

光に応答して可逆的に表面相分離構造を変える細胞培養用基材

発明者： 武田 直也 ,  今任 景一 ,  坂野 誠人 ,  松下 武司 ,  福士 英明 ,  謝 小毛
出願人/特許権者： 学校法人早稲田大学 ,  JNC株式会社
代理人 (7件)： 牛木 護 ,  高橋 知之 ,  田中 淳二 ,  守屋 嘉高 ,  加藤 裕介 ,  齋藤 麻美 ,  中村 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-006770
公開番号（公開出願番号）：特開2019-194305
出願日： 2019年01月18日
公開日（公表日）： 2019年11月07日
要約：

【課題】 光に対して応答し、可逆的な表面微細構造の変化を惹起する重合体材料を作製することにより、光応答性細胞培養材料、及び、その製造方法を提供する。【解決手段】 光応答性細胞培養材料として、2種類のメタクリレート類によるジブロック共重合体を合成し、光に可逆的に応答するスピロベンゾピランをベースとしたモノマーを前記ジブロック共重合体に導入した。そして、材料表面の微細構造の作製を目的に、ジブロック重合体の各ブロックの物性の違いによる自己凝集により自発的に微細構造を形成する相分離現象を利用し、表面にアルキル鎖等の有機層を積層することで疎水修飾を施した基体上に前記光応答性ジブロック共重合体を被膜し、表面に微細構造を有する培養基板を作製した。この培養基板に可視光又はUV光を照射することにより培養細胞の接着、脱離、再接着及び再脱離を可逆的に制御可能な光応答相分離構造体システムを作製した。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

下記式(I)で表されることを特徴とする、ブロック共重合体:

IPC (5件)：

C08F 293/00 ,  C12N 5/071 ,  C08F 2/38 ,  C08F 4/04 ,  C08F 220/12

FI (5件)：

C08F293/00 ,  C12N5/071 ,  C08F2/38 ,  C08F4/04 ,  C08F220/12

Fターム (27件)：

4B065AA87X ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065BC48 ,  4B065BD22 ,  4B065BD25 ,  4B065BD40 ,  4B065CA60 ,  4J011NA26 ,  4J011NB04 ,  4J015AA06 ,  4J026HA11 ,  4J026HA22 ,  4J026HA38 ,  4J026HA48 ,  4J026HB11 ,  4J026HB20 ,  4J026HB22 ,  4J026HB38 ,  4J026HE04 ,  4J100AL03P ,  4J100AL03Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA27 ,  4J100FA03 ,  4J100FA04 ,  4J100JA15