特許
J-GLOBAL ID：201903014577704604

非水性流体を用いたエレクトロクロミックフィルムからの粒子除去

発明者：
ハーヴェー・カルヴァイト

ハーヴェー・カルヴァイト について

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サティヤ・アッジャラプ

サティヤ・アッジャラプ について

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ジャン・クリストフ・ギロン

ジャン・クリストフ・ギロン について


出願人/特許権者：
セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド

セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド について


代理人 (7件)： 大塚 康徳 ,  大塚 康弘 ,  高柳 司郎 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光 ,  木下 智文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-198668
公開番号（公開出願番号）：特開2019-053306
出願日： 2018年10月22日
公開日（公表日）： 2019年04月04日
要約：
【課題】洗浄プロセスに関連するダメージを負うことなく、高い製造収率で良好なデバイス性能のエレクトロクロミックデバイスを製造可能な洗浄方法を提供する。【解決手段】エレクトロクロミックデバイスを構成する下部導電体、EC層、IC層、CE層、等の各フィルム層の形成及びパターニングの後、表面に付着した粒子状物を除去する際、非水性ジェット洗浄により表面に付着した粒子状物を除去する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板の表面を作製する方法であって、作製されている表面を非水性液体に曝すことを含 み、表面が、0.1ミクロン〜1000ミクロンの範囲のサイズを有する粒子状材料を含 む、方法。
IPC (3件)：
G02F 1/15 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/02
FI (4件)：
G02F1/15 505 ,  G02F1/15 507 ,  B08B3/08 Z ,  B08B3/02 Z
Fターム (18件)：
2K101AA22 ,  2K101DA01 ,  2K101DB07 ,  2K101DB33 ,  2K101EH02 ,  2K101EH21 ,  2K101EH61 ,  2K101EJ23 ,  2K101EJ31 ,  2K101EK05 ,  3B201AA46 ,  3B201BA02 ,  3B201BB11 ,  3B201BB22 ,  3B201BB83 ,  3B201BC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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