エピトープ均質化抗体パネル、ならびにその作製方法および利用

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：山本秀策 , 森下夏樹 , ▲駒▼谷剛志 , 飯田貴敏 , 石川大輔 , 山本健策
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2017041683
公開番号（公開出願番号）：WO2018-092907
出願日： 2017年11月20日
公開日（公表日）： 2018年05月24日
要約：

本発明は、抗体の効率よいスクリーニングのための技術、あるいは抗体による抗原の機能領域の探索と特定のための技術を提供する。詳細には、本発明は、エピトープ均質化抗体パネルを提供する。本発明はまたある抗原に対するエピトープ均質化抗体パネルを作製する方法であって(a)該抗原に対する抗体の集合をオリジナル抗体パネルとして提供する工程と(b)該オリジナル抗体パネルに含まれる抗体の結合データを得る工程と(c)該結合データに基づいて該オリジナル抗体パネルをクラスタリングする工程と(d)必要に応じて部分パネルを生成しクラスタリングする工程と(e)該パネルのエピトープグループ数eを算出しe≧該抗原に関する目標エピトープグループ数Eを充足するパネルが存在する場合にはエピトープ均質化抗体パネルとし存在しない場合新たな抗体を加えて新たな抗体の集合を作成し(a)〜(d)を繰り返す工程とを含む方法を提供する。

請求項（抜粋）：

ある抗原に対するエピトープ均質化抗体パネルを作製する方法であって、 (a)該抗原に対する抗体の集合をオリジナル抗体パネルとして提供する工程であって、該抗体の集合に含まれる抗体数nは、該抗原に対する目標抗体数N以上である、工程と、(b)該オリジナル抗体パネルに含まれる抗体の結合データを得る工程と、 (c)該結合データに基づいて、該オリジナル抗体パネルをクラスタリングする工程と、(d)必要に応じて該オリジナル抗体パネルから、1または複数の抗体を除外して、1または複数の部分パネルを生成し、該1または複数の部分パネルの各々について、該結合データに基づいてクラスタリングする工程と、 (e)該オリジナル抗体パネルおよび該1または複数の部分パネルのエピトープグループ数eを算出し、e≧該抗原に関する目標エピトープグループ数Eを充足するオリジナル抗体パネルまたは部分パネルが存在する場合には、e≧Eを充足するオリジナル抗体パネルまたは部分パネルをエピトープ均質化抗体パネルとし、e≧Eを充足するオリジナル抗体パネルまたは部分パネルが存在しない場合、該オリジナル抗体または該部分パネルに新たな抗体を加えて新たな抗体の集合を作成し(a)〜(d)を繰り返す、工程とを含む方法。

IPC (5件)：

C07K 16/00 , C07K 16/28 , C12N 15/13 , C07K 16/46 , A61K 39/395

FI (5件)：

C07K16/00 , C07K16/28 , C12N15/13 , C07K16/46 , A61K39/395 N

Fターム (23件)：

4B064AG27 , 4B064CA10 , 4B064CA20 , 4B064CC03 , 4B064CC06 , 4B064CC12 , 4B064CC24 , 4B064CD12 , 4B064CD21 , 4B064CE03 , 4B064CE06 , 4B064DA01 , 4C085AA14 , 4C085AA15 , 4C085DD62 , 4H045AA11 , 4H045BA41 , 4H045CA40 , 4H045DA76 , 4H045EA20 , 4H045FA74 , 4H045GA10 , 4H045GA15

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