特許

J-GLOBAL ID：201903015434548110

エナメル線の皮膜異常検出方法、エナメル線の製造方法、及びエナメル線の製造装置。

発明者： 佐藤 巧 ,  大築 優
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人平田国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-023589
公開番号（公開出願番号）：特開2019-138814
出願日： 2018年02月13日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：

【課題】エナメル皮膜に発生した厚みの異常が所定の高さよりも低い場合であっても皮膜異常を検出することができるエナメル線の皮膜異常検出方法、エナメル線の製造方法、及びエナメル線の製造装置を提供する。【解決手段】エナメル皮膜の異常を検出するエナメル線の皮膜異常検出方法であって、エナメル線のエナメル皮膜の表面の高さを取得する工程と、エナメル皮膜の表面の画像を取得する工程と、取得したエナメル線皮膜の表面の画像からエナメル線の皮膜の表面の形状を検出する工程と、取得したエナメル皮膜の表面の高さが所定の高さを超えているときに異常高さ信号を出力する工程と、検出したエナメル皮膜の表面の形状から算出される面積が所定の面積を超えているときに異常形状信号を出力する工程と、異常高さ信号あるいは異常形状信号が出力されたときにエナメル皮膜に異常があると判断する工程と、を含むエナメル線の皮膜異常検出方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

エナメル皮膜の異常を検出するエナメル線の皮膜異常検出方法であって、 前記エナメル皮膜の表面の高さを取得する工程と、 前記エナメル皮膜の表面の画像を取得する工程と、 取得した前記エナメル皮膜の表面の画像から前記エナメル皮膜の表面の形状を検出する工程と、 取得した前記エナメル皮膜の表面の高さが所定の高さを超えているときに異常高さ信号を出力する工程と、 検出した前記エナメル皮膜の表面の形状から算出される面積が所定の面積を超えているときに異常形状信号を出力する工程と、 前記異常高さ信号あるいは前記異常形状信号が出力されたときに前記エナメル皮膜に異常があると判断する工程と、 を含むエナメル線の皮膜異常検出方法。

IPC (6件)：

G01N 21/892 ,  H01B 13/16 ,  G01B 11/30 ,  G01B 11/00 ,  G01R 31/02 ,  H01B 13/00

FI (6件)：

G01N21/892 C ,  H01B13/16 E ,  G01B11/30 A ,  G01B11/00 H ,  G01R31/02 ,  H01B13/00 C

Fターム (29件)：

2F065AA06 ,  2F065AA24 ,  2F065AA49 ,  2F065AA58 ,  2F065BB12 ,  2F065BB15 ,  2F065CC00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT06 ,  2G014AA25 ,  2G014AB31 ,  2G014AC18 ,  2G014AC19 ,  2G051AA44 ,  2G051AB07 ,  2G051AB12 ,  2G051CA04 ,  2G051DA06 ,  2G051DA15 ,  2G051ED09 ,  5G325KB17 ,  5G325KD01

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 平角エナメル線の外観検査方法および平角エナメル線の外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-241461   出願人：日立金属株式会社
• 被覆厚さ検査方法及び被覆厚さ検査装置
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2014005189   出願人：古河電気工業株式会社, 古河マグネットワイヤ株式会社
• エナメル線の製造方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-318171   出願人：株式会社フジクラ
• 特開平3-087652