特許

J-GLOBAL ID：201903015822041604

イオンビーム処理装置

発明者： チャン シュヨンウー
出願人/特許権者： ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 杉村 憲司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-539715
特許番号：特許第6453756号
出願日： 2013年10月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 第一の平面に対して垂直に配向され、間でイオンビームを伝達し前記第一の平面で前記イオンビームを走査するための領域を規定する走査電極の組と、 前記第一の平面に対して平行に配向された複数の電極を備える多重極静電レンズシステムと、を備え、 前記多重極静電レンズシステムは、前記多重極静電レンズシステムを構成する前記電極の、前記走査電極の組を構成する一対の前記走査電極の離間方向における幅が一対の前記走査電極の間隔よりも大きい状態で、前記走査電極の組に重なり、 前記多重極静電レンズシステム及び前記走査電極の組は、前記イオンビームが横断するビーム経路の同一の部分に沿って前記イオンビームを囲み、 前記多重極静電レンズシステムは、前記領域内の前記第一の平面に対して垂直な方向で前記イオンビームを整形するよう構成される、 イオンビーム走査組立体。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ( 200 6.01) ,  H01J 37/04 ( 200 6.01) ,  H01J 37/147 ( 200 6.01) ,  H01L 21/265 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01J 37/317 Z ,  H01J 37/04 A ,  H01J 37/147 D ,  H01L 21/265 603 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 荷電ビーム露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-237163   出願人：株式会社東芝
• 特開平2-250255
  
• 特開平2-250255
  
• 特開平2-250255