特許
J-GLOBAL ID:201903017646213811

カーボンナノチューブ複合膜で二次元ナノ材料を転写する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): TRY国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-010254
公開番号(公開出願番号):特開2019-127433
出願日: 2019年01月24日
公開日(公表日): 2019年08月01日
要約:
【課題】二次元ナノ材料を、汚染や損傷されることなく転写する方法の提供。【解決手段】S1:第一基板101を提供して、第一基板101の表面に二次元ナノ材料層102を形成する。S2:カーボンナノチューブ複合膜103を提供して、カーボンナノチューブ複合膜103で、第一基板101の二次元ナノ材料層102が形成する表面を覆う。S3:第一基板101を除去し、二次元ナノ材料層102及びカーボンナノチューブ複合膜103が、二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体を形成する。S4:ターゲット基板104を提供し、二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体をターゲット基板104の表面に転写して、ターゲット基板104を二次元ナノ材料層102と接触させる。S5:カーボンナノチューブ複合膜103を除去し、二次元ナノ材料層102がターゲット基板104の表面に転写される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第一基板を提供するステップであり、前記第一基板の表面に二次元ナノ材料層が形成されるステップと、 カーボンナノチューブ複合膜を提供して、該カーボンナノチューブ複合膜で、前記第一基板の二次元ナノ材料層が形成する表面を覆うステップであり、前記カーボンナノチューブ複合膜は、カーボンナノチューブフィルム構造体及び該カーボンナノチューブフィルム構造体の一つの表面に形成されたナノ材料を含み、前記カーボンナノチューブフィルム構造体のもう一つの表面は、前記二次元ナノ材料層と接触するステップと、 前記第一基板を除去し、前記二次元ナノ材料層及び前記カーボンナノチューブ複合膜が、二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体を形成するステップと、 ターゲット基板を提供し、前記二次元ナノ材料層/カーボンナノチューブ複合膜の複合構造体を前記ターゲット基板の表面に転写して、前記ターゲット基板を前記二次元ナノ材料層と接触させるステップと、 前記カーボンナノチューブ複合膜を除去し、前記二次元ナノ材料層が前記ターゲット基板の表面に転写されるステップと、 を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ複合膜で二次元ナノ材料を転写する方法。
IPC (4件):
C01B 32/194 ,  C01B 32/168 ,  C01G 39/06 ,  B82Y 40/00
FI (4件):
C01B32/194 ,  C01B32/168 ,  C01G39/06 ,  B82Y40/00
Fターム (12件):
4G048AA07 ,  4G048AB03 ,  4G048AD02 ,  4G146AA01 ,  4G146AA07 ,  4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD05 ,  4G146AD40 ,  4G146BC09 ,  4G146CB01 ,  4G146CB17
引用特許:
審査官引用 (4件)
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