特許
J-GLOBAL ID:201903018829897007
ポリウレタンフォーム製造用組成物、ポリオールシステム液及びポリウレタンフォームの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
棚井 澄雄
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-024193
公開番号(公開出願番号):特開2019-137810
出願日: 2018年02月14日
公開日(公表日): 2019年08月22日
要約:
【課題】ポリウレタンフォームの設計の自由度が高く、ポリオールシステム液の貯蔵安定性に優れるポリエーテルポリオールの提供。【解決手段】アルキレンオキシドに基づく単位からなるポリエーテル鎖を有し、不飽和度が0.020meq/g以下であり、水酸基価が1〜80mgKOH/gであり、エチレンオキシドに基づく単位の含有率が0〜50質量%であり、分子量が数平均分子量の12〜46倍である超高分子量成分の含有率が1,000質量ppm以下である、ポリエーテルポリオール。数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法で測定されるポリスチレン換算分子量であり、超高分子量成分の含有率は荷電化粒子検出器(CAD)を用いた高速液体クロマトグラフィー(HPLC)法で測定される値である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
アルキレンオキシドに基づく単位からなるポリエーテル鎖を有し、不飽和度が0.020meq/g以下であり、水酸基価が1〜80mgKOH/gであり、ポリエーテルポリオールの総質量に対するエチレンオキシドに基づく単位の含有率が0〜50質量%であり、分子量が数平均分子量の12〜46倍である超高分子量成分の含有率が1,000質量ppm以下である、ポリエーテルポリオール。
ただし、前記数平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィーにより求められるポリスチレン換算の値であり、前記超高分子量成分の含有率は下記測定方法1で求められる値である。
<測定方法1>
(1)被試験体であるポリエーテルポリオールの濃度が0.6質量%となるように、テトラヒドロフランで溶解した試料を、下記HPLC条件で分析して、リテンションタイムをX軸、信号強度をY軸とするクロマトグラムを得る。
(2)ポリスチレンを標準物質として、分子量とリテンションタイムとの関係を示す較正曲線を作成する。
(3)(2)で作成した較正曲線を用い、前記数平均分子量の12倍の分子量に相当するリテンションタイムX1と、前記数平均分子量の46倍の分子量に相当するリテンションタイムX2を求める。
(4)前記クロマトグラムと、ベースラインと、X=X1の直線と、X=X2の直線とで囲まれた部分の面積を求める。
(5)分子量92,000のポリスチレンを異なる濃度で含む複数の標準液を前記(1)と同じHPLC条件で分析し、得られたクロマトグラムとベースラインとで囲まれた部分の面積と、分子量92,600のポリスチレンの濃度との関係を示す、切片がゼロの検量線を作成する。
(6)(5)で作成した検量線を用い、(4)で求めた面積を、分子量92,600のポリスチレンの濃度に換算して、超高分子量成分の濃度とする。
(7)(6)で得た濃度の値から、前記被試験体中の超高分子量成分の含有率を算出する。
(HPLC条件)
装置:高速液体クロマトグラフィー装置、
検出器:荷電化粒子検出器、
溶離液:テトラヒドロフラン、
溶離液の流量:0.2mL/分、
試料の注入量:20μL、
カラム:平均粒径が3〜4μmのスチレンジビニルベンゼン共重合体を充填した、内径が4.6mm、長さが150〜250mm、理論段数が16,000TP/本以上の有機溶媒系液体クロマトグラフィー用カラムであって、溶離液にテトラヒドロフランを用いてポリスチレンの分子量を測定した場合の排除限界分子量が1,000,000以上のカラムを上流側に、20,000〜100,000のカラムを下流側に直列につないだもの。
IPC (3件):
C08G 65/08
, C08G 18/48
, C08G 18/00
FI (4件):
C08G65/08
, C08G18/48
, C08G18/48 041
, C08G18/00 F
Fターム (21件):
4J005AA04
, 4J005AA12
, 4J005BB04
, 4J005BC00
, 4J034DG03
, 4J034DG04
, 4J034HA01
, 4J034HA07
, 4J034HC12
, 4J034HC61
, 4J034HC71
, 4J034KA01
, 4J034KB02
, 4J034KD12
, 4J034NA03
, 4J034NA05
, 4J034QA02
, 4J034QA05
, 4J034QB01
, 4J034QB15
, 4J034QC01
引用特許: