特許

J-GLOBAL ID：201903020270787421

錯体化合物、炭素炭素三重結合を有する化合物の製造方法、当該方法の中間体の製造方法及びこれらの方法に用いるキット

発明者： 叶 直樹 ,  藤木 翔吾 ,  岡村 俊孝 ,  岩渕 好治
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-037799
公開番号（公開出願番号）：特開2019-151586
出願日： 2018年03月02日
公開日（公表日）： 2019年09月12日
要約：

【課題】より穏和な条件でジコバルトカチオン錯体を原料化合物に導入する方法、及び原料化合物に、プロパルギル基等の炭素炭素三重結合を導入する方法を実施するのに有用な新規化合物の提供。【解決手段】下式23aに代表されるジコバルトカチオン錯体化合物又はその塩。該化合物を用いることにより、メトキシナフタレン等にC3ジコバルトカチオン錯体部分を導入でき、更にCoを除去することによりプロパルギル基を導入できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される化合物又はその塩:

IPC (4件)：

C07F 15/06 ,  C07C 69/736 ,  C07D 311/76 ,  C07D 209/08

FI (4件)：

C07F15/06 ,  C07C69/736 ,  C07D311/76 ,  C07D209/08

Fターム (31件)：

4C062GG03 ,  4C062GG08 ,  4C204AB01 ,  4C204BB04 ,  4C204CB03 ,  4C204DB04 ,  4C204EB02 ,  4C204FB03 ,  4C204GB01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AC80 ,  4H006BA51 ,  4H006BD70 ,  4H006BJ50 ,  4H006BP30 ,  4H006KA31 ,  4H039CA39 ,  4H039CA93 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40 ,  4H039CE90 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AB84 ,  4H050AC10 ,  4H050AC80 ,  4H050BA05 ,  4H050BA51 ,  4H050WB11 ,  4H050WB22