特許

J-GLOBAL ID：201903020957981252

加熱調理器

発明者： 坂口 武史
出願人/特許権者： 日立アプライアンス株式会社
代理人 (1件)： 戸田 裕二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-041712
公開番号（公開出願番号）：特開2017-156053
特許番号：特許第6488247号
出願日： 2016年03月04日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被加熱物を加熱する加熱室と、 前記被加熱物を加熱する加熱手段と、 前記被加熱物の温度を検知する前記加熱室の上部寄りの赤外線センサと、 該赤外線センサを回動させる駆動手段と、 前記駆動手段を制御する制御手段と、 前記加熱室に配置する受け皿と、を備え、 所定の検知点から他の検知点までの回動範囲で、前記駆動手段が前記赤外センサを所定の角度で回動する毎に検知点の温度を検知して前記被加熱物の温度を検知するものであって、 前記制御手段は、前記加熱室底面よりも高い位置に前記受け皿が配置されている場合、前記加熱室底面よりも高い位置に受け皿が配置されていない場合に比べて、前記赤外線センサの回動範囲が大きくなるように前記駆動手段を制御するものであり、前記加熱室底面よりも高い位置に前記受け皿が配置されている場合の回動範囲と、前記加熱室底面よりも高い位置に受け皿が配置されていない場合の回動範囲は一部の領域が重なっていることを特徴とする加熱調理器。

IPC (1件)：

F24C 7/02 ( 200 6.01)

FI (1件)：

F24C 7/02 330 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 加熱調理器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-042910   出願人：シャープ株式会社
• 高周波加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-231410   出願人：株式会社日立ホームテック
• 高周波加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-019001   出願人：三洋電機株式会社

審査官引用 (3件)

• 加熱調理器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-042910   出願人：シャープ株式会社
• 高周波加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-231410   出願人：株式会社日立ホームテック
• 高周波加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-019001   出願人：三洋電機株式会社