特許
J-GLOBAL ID：201903021178921614

イオン注入装置および測定装置

発明者：
井門 徳安

井門 徳安 について

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狩谷 宏行

狩谷 宏行 について

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大浦 正英

大浦 正英 について


出願人/特許権者：
住友重機械イオンテクノロジー株式会社

住友重機械イオンテクノロジー株式会社 について


代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  富所 輝観夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-020944
公開番号（公開出願番号）：特開2019-139908
出願日： 2018年02月08日
公開日（公表日）： 2019年08月22日
要約：
【課題】イオンビームの角度分布の評価を高速化する。【解決手段】測定装置50は、イオンビームが入射する複数のスリット74a〜74cと、複数のスリットからビーム進行方向に離れた位置に設けられるビーム電流測定部54と、測定制御部とを含む。ビーム電流測定部54は、ビーム進行方向と直交する第1方向の位置が異なる複数の測定位置でビーム電流を測定可能となるよう構成される。複数のスリット74a〜74cは、第1方向がスリット幅方向と一致するように第1方向に間隔を空けて配置され、第1方向に可動となるように構成される。測定制御部は、複数のスリットを第1方向に移動させながら、ビーム電流測定部により第1方向の位置が異なる複数の測定位置で測定される複数のビーム電流値を取得する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
ウェハに照射されるイオンビームを輸送するビームライン装置と、前記イオンビームの角度情報を測定する測定装置と、を備え、 前記測定装置は、前記イオンビームが入射する複数のスリットと、前記複数のスリットからビーム進行方向に離れた位置に設けられるビーム電流測定部と、測定制御部とを含み、 前記ビーム電流測定部は、前記ビーム進行方向と直交する第1方向の位置が異なる複数の測定位置でビーム電流を測定可能となるよう構成され、 前記複数のスリットは、前記第1方向がスリット幅方向と一致するように前記第1方向に間隔を空けて配置され、前記第1方向に可動となるように構成され、 前記測定制御部は、前記複数のスリットを前記第1方向に移動させながら、前記ビーム電流測定部により前記第1方向の位置が異なる複数の測定位置で測定される複数のビーム電流値を取得することを特徴とするイオン注入装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317 ,  H01L 21/265
FI (2件)：
H01J37/317 C ,  H01L21/265 T
Fターム (1件)：
5C034CD08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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