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J-GLOBAL ID：202002210687042219   整理番号：20A0492471

スケーラブルな超疎媒性表面【JST・京大機械翻訳】

Scalable Superomniphobic Surfaces

著者 (3件)： Rontu Ville (Department of Chemistry and Material Science, Aalto University, Espoo, Finland) ,  Jokinen Ville (Department of Chemistry and Material Science, Aalto University, Espoo, Finland) ,  Franssila Sami (Department of Chemistry and Material Science, Aalto University, Espoo, Finland)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 29  号： 1  ページ： 54-61  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端に低い表面張力の液体を繰り返す超微細表面は,典型的にはシリコンの深い反応性イオンエッチング技術によって作られた,注意深く作製された二重リエントラントトポグラフィーに依存している。しかし,以前に発表されたプロセスは,ダウンスケールが困難な臨界時間エッチングステップに依存している。臨界時間エッチングステップを除去するスケーラブルなプロセスを示した。それは,シリコン-オン-絶縁体ウエハとマイクロピラーの酸化ケイ素足の使用に基づいており,等方性シリコン放出ステップを非臨界にする。プロセスは,20μmから10μmと5μmへのピラーの容易なダウンスケーリングを可能にした。ダウンスケーリングはCassie状態の安定性を増加させる。プロセスに基づいて,200μmまでの液滴径のCassie状態において,室温(20°Cでγ_lv=11.91mN/m)で既知の液体の最低表面張力を有するペルフルオロヘキサン(FC-72)を維持する超疎水性表面を創り出すことができた。これらは,これまでに報告された最小のペルフルオロヘキサン液滴である[2019-0207]Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  等方性 ,  絶縁体 ,  界面張力 ,  液滴径 ,  液滴 ,  RIE【エッチング】 ,  酸化ケイ素 ,  臨界
準シソーラス用語： 超疎水性 ,  マイクロピラー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)