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J-GLOBAL ID：202002210754710968   整理番号：20A2123278

ジルコニウム酸鉛薄膜の構造特性に及ぼす急速熱アニーリングの影響の研究【JST・京大機械翻訳】

Investigation of the effects of rapid thermal annealing on the structural properties of lead zirconate-titanate thin films

著者 (4件)： Petrov V. V. (Institute of Nanotechnologies, Electronics and Equipment Engineering, Southern Federal University, Taganrog, Russia) ,  Polyakov V. V. (Institute of Nanotechnologies, Electronics and Equipment Engineering, Southern Federal University, Taganrog, Russia) ,  Varzarev Yu. N. (Institute of Nanotechnologies, Electronics and Equipment Engineering, Southern Federal University, Taganrog, Russia) ,  Pavlenko A. V. (Southern Research Center of, Russian Academy of Sciences, Rostov-on-Don, Russia)
資料名： Ferroelectrics  (Ferroelectrics)
巻： 561  号： 1  ページ： 51-56  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0777A  ISSN： 0015-0193  CODEN： FEROA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究の目的は,ジルコニウム酸チタン酸鉛(PZT)膜の構造および相特性に及ぼすハロゲンランプによる急速熱アニーリング(RTA)の影響を調べることである。厚さ1.0±0.1μmのPZT薄膜を,配向(100)を有する酸化シリコンとシリコン基板上に酸素雰囲気中で高周波反応性プラズマスパッタリングにより堆積した。堆積後,500°C,600°C,700°Cの温度で,60°C/sの速度でRTAにPZT膜を印加した。PZT膜の構造相組成をX線回折分析で決定した。走査電子顕微鏡法によるヘテロ構造の研究は,RTA温度の上昇が,その初期状態と比較して,PZT膜の構造相状態の定性的変化をもたらすことを示した。これは,特定のパラメータを有するPZT膜の形成においてRTAを効果的に使用できる。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  X線回折分析 ,  酸化ケイ素 ,  HF【周波数】 ,  位相特性 ,  ハロゲン電球 ,  相組成 ,  *ジルコニウム酸鉛 ,  構造特性 ,  *RTA【熱処理】
準シソーラス用語： プラズマスパッタリング ,  ヘテロ構造 ,  シリコンウエハ ,  走査電子顕微鏡法 ,  酸素雰囲気 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： PZT ,  薄膜 ,  急速熱アニーリング

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (5件)： ジルコニウム酸鉛 ,  薄膜 ,  構造特性 ,  急速熱アニーリング ,  研究