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J-GLOBAL ID：202002211291194643   整理番号：20A0503873

走査型ヘリウム顕微鏡における多重散乱【JST・京大機械翻訳】

Multiple scattering in scanning helium microscopy

著者 (9件)： Lambrick S. M. (Department of Physics, Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Avenue, Cambridge CB3 0HE, United Kingdom) ,  Vozdecky L. (Department of Physics, Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Avenue, Cambridge CB3 0HE, United Kingdom) ,  Bergin M. (Department of Physics, Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Avenue, Cambridge CB3 0HE, United Kingdom) ,  Halpin J. E. (SUPA, School of Physics and Astronomy, University of Glasgow, Glasgow G12 8QQ, United Kingdom) ,  MacLaren D. A. (SUPA, School of Physics and Astronomy, University of Glasgow, Glasgow G12 8QQ, United Kingdom) ,  Dastoor P. C. (Centre for Organic Electronics, Physics Building, University of Newcastle, Callaghan NSW 2308, Australia) ,  Przyborski S. A. (Department of Biosciences, Durham University, South Road, Durham DH1 3LE, United Kingdom) ,  Jardine A. P. (Department of Physics, Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Avenue, Cambridge CB3 0HE, United Kingdom) ,  Ward D. J. (Department of Physics, Cavendish Laboratory, University of Cambridge, JJ Thomson Avenue, Cambridge CB3 0HE, United Kingdom)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 116  号： 6  ページ： 061601-061601-5  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 実空間における試料の表面を画像化するために原子ビームを用いることは,微妙な試料からユニークなコントラストを提供する新しい技術である。ここでは,走査型ヘリウム顕微鏡(SHEM)画像におけるトポグラフィーコントラスト形成において重要な役割を果たす特定の過程であるヘリウム原子の多重散乱から生じるコントラストを調べた。種々の深さの一連のトレンチから成る試験試料をイオンビームミリングによって調製した。浅いトレンチ(深さ/幅<1)のSHEM画像は,照射原子ビームのマスキングと関連した確立されたコントラストを示した。マスクのサイズを用いてトレンチ深さを推定し,既知の値と良く一致することを示した。対照的に,深いトレンチ(深さ/幅>1)は強化された強度を示した。散乱ヘリウム信号を解析的にモデル化し,モンテカルロ光線追跡を用いて数値的にシミュレートした。両アプローチは実験データと非常に良く一致し,増強は多重散乱による散乱ヘリウム原子の局在化に起因することを確認した。結果を用いて,深い多孔質構造を持つバイオ技術的に関連した試料のSHEM画像を解釈し,SHEM画像解釈における多重散乱の関連性を強調した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *走査 ,  *多重散乱 ,  モンテカルロ法 ,  光線追跡 ,  原子ビーム ,  マスキング ,  イオンビーム ,  画像認識 ,  *ヘリウム ,  *散乱 ,  コントラスト
準シソーラス用語： 局在化 ,  ヘリウム原子 ,  画像化 ,  実空間 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 走査型 ,  ヘリウム ,  顕微鏡 ,  多重散乱