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J-GLOBAL ID:202002211794975615   整理番号:20A0910320

垂直ナノワイヤとナノシートFET デバイスの特徴,改良されたプロセス制御のための新しいスキーム,より高速でより高いエネルギー効率の回路のための可能性【JST・京大機械翻訳】

Vertical Nanowire and Nanosheet FETs: Device Features, Novel Schemes for Improved Process Control and Enhanced Mobility, Potential for Faster & More Energy Efficient Circuits
著者 (25件):
資料名:
巻: 2019  号: IEDM  ページ: 11.1.1-11.1.4  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超スケール回路に対して魅力的な機会を提供するpおよびn型垂直ゲート-オール-アラウンド(GAA)ナノワイヤ(NW)およびナノシート(NS)FETについて報告した。RMG方式で構築された接合レス(JL)対逆モード(IM)垂直FETの性能,可変性,雑音および信頼性挙動を改善するために,ドーピングおよびキーデバイス寸法の影響に関する徹底的評価を提示した。後者は,予測されたA19%より高いI_ONまでの増強された移動度のために,VFETsにおける応力を導入するための新しい概念を可能にした。SiGe/Siピラーと自己整合スペーサは,S/Dへの垂直(mis)配列をゲートするための解決策を提供する。MRAMセレクターとして,VNS FETは,より小さい読出し/書込みエネルギー消費と待ち時間で,実質的な面積縮小(セル当たり2VNSに対して64%;3nmノード設計ルール)対フィンFETベースのセルを可能にする。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (5件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
専用演算制御装置  ,  医用画像処理  ,  音声処理  ,  NMR一般  ,  符号理論 

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