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J-GLOBAL ID：202002213937242204   整理番号：20A1413375

金のナノインプリントリソグラフィーにおける材料変形挙動に関するプロセスパラメータ変化の原子論的研究【JST・京大機械翻訳】

Atomistic investigation of process parameter variations on material deformation behavior in nanoimprint lithography of gold

著者 (4件)： Gaikwad Abhaysinh (Department of Industrial & Systems Engineering, North Carolina Agricultural & Technical State University, Greensboro, NC, 27411, USA) ,  Odujole Jahlani (Department of Industrial & Systems Engineering, North Carolina Agricultural & Technical State University, Greensboro, NC, 27411, USA) ,  Desai Salil (Department of Industrial & Systems Engineering, North Carolina Agricultural & Technical State University, Greensboro, NC, 27411, USA) ,  Desai Salil (Wake Forest Institute for Regenerative Medicine, Wake Forest School of Medicine, Winston-Salem, NC, 27157, USA)
資料名： Precision Engineering  (Precision Engineering)
巻： 64  ページ： 7-19  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0734B  ISSN： 0141-6359  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン鋳型による金基板の直接金属ナノインプリント(NIL)を分子動力学シミュレーションにより調べた。接触圧,von Mises応力,および格子構造の転位挙動に及ぼすインプリント温度,鋳型速度,および鋳型プロファイルのような異なるプロセスパラメータの影響をナノインプリントプロセスの間に研究した。より高い接触圧が成形相中に観察され,緩和と脱型相の間にさらに低下した。狭い鋳型形状(アスペクト比=2)は,1300Kで最高の接触圧(6.61GPa)と,金原子の低い断面積と非圧縮性性質のため,50m/sであった。最大von Mises応力(1.8×107GPa)を,298Kおよび473Kでの挿入相中の鋳型歯の下で観察した。さらに,最大von Mises応力(1.32×107GPa)を,膨張溶融金原子に及ぼす鋳型の抑止効果のために1300Kで追跡した。多面体テンプレートマッチング(PTM)法を用いた格子転位解析は,金基板が,298Kと473KでのNILプロセス後に,その面心立方(FCC)構造と結果としての延性特性を維持することを明らかにした。1300Kでは,金原子の融解と急速結晶化によるNILプロセスの完了後,金原子の60%以上が歪んだ構造で残留した。両鋳型形状に対して,金の再結晶温度(473K)で高分解能インプリントを達成した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 延性 ,  結晶化 ,  断面積 ,  *金 ,  格子構造 ,  ケイ素 ,  接触圧 ,  脱型 ,  *プロセスパラメータ ,  高分解能 ,  分子動力学
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  分子動力学シミュレーション ,  *変形挙動 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 接触圧力 ,  変形挙動 ,  金基板 ,  格子構造 ,  分子動力学 ,  ナノインプリントリソグラフィー

分類 (1件)： 特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 金 ,  ナノインプリントリソグラフィー ,  変形挙動 ,  プロセスパラメータ ,  研究