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J-GLOBAL ID:202002215665187725   整理番号:20A2368247

低温水性ガスシフト反応のためのセリア上の銅の分散【JST・京大機械翻訳】

Dispersion of copper on ceria for the low-temperature water-gas shift reaction
著者 (7件):
資料名:
巻: 357  ページ: 460-467  発行年: 2020年 
JST資料番号: T0363A  ISSN: 0920-5861  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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層,クラスタおよび粒子の形でのCu化学種を,析出沈殿法により棒状セリア上に分散させ,得られたCu/CeO_2触媒を低温水性ガスシフト反応に対して試験した。Cu/CeO_2触媒の構造,化学および表面特性を,分光法および顕微鏡技術によって分析した。棒状セリア上の銅の分散は金属負荷(1~28mol%)に強く依存し,低い含有量は銅単分子層および/または二分子層をもたらし,一方,より高い負荷は多層クラスタおよびファセット粒子をもたらした。銅-セリア界面は,セリア上の酸素空孔と正に荷電した銅原子の密接な結合によって,金属種中の銅原子とセリア上の酸素空孔との間の電子的および幾何学的相互作用を含むCu+-O_v-Ce3+の形で構築された。全体の活性は1~15mol%の範囲で銅含有量と共に直線的に増加し,主に銅単分子層および/または二分子層によって寄与した。28mol%までCu負荷をさらに増加させると,多層および結晶性Cu粒子の存在のため,活性はわずかに増加した。この知見は,棒状セリア上の銅の分散がCu/CeO_2触媒中の銅の負荷に依存し,それは活性部位の数および密度と関連することを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
ガス化,ガス化プラント  ,  その他の触媒  ,  貴金属触媒 
タイトルに関連する用語 (4件):
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