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J-GLOBAL ID：202002217856856040   整理番号：20A0406336

XANESとXRRを用いた低酸素分圧でのスパッタTiO_2薄膜の相成長解析【JST・京大機械翻訳】

Phase growth analysis of sputtered TiO₂ thin films at low oxygen partial pressures using XANES and XRR

著者 (4件)： Singh Rajan (Department of Physics, Birla Institute of Technology, Mesra, Ranchi-835215, India) ,  Gupta Mukul (UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University Campus, Khandwa Road, Indore 45200, India) ,  Phase D M (UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University Campus, Khandwa Road, Indore 45200, India) ,  Mukherjee S K (Department of Physics, Birla Institute of Technology, Mesra, Ranchi-835215, India)
資料名： Materials Research Express  (Materials Research Express)
巻： 6  号： 11  ページ： 116449 (12pp)  発行年： 2019年 
JST資料番号： W5570A  ISSN： 2053-1591  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,酸化チタン薄膜の相成長における酸素の影響を明らかにした。非常に低い酸素分圧(0~0.04)で30分間,Ti金属ターゲットを用いたdcマグネトロンスパッタリングを用いて膜を開発した。膜の構造特性の変化を確かめるために,膜のX線反射率(XRR)を行った。膜の粗さは酸素分圧のわずかな変化でも連続的に増加したが,膜密度は酸素含有量の増加とともに3.6~3.8gcm-3以内で安定化した。L_2,3とO K端X線吸収端近傍構造(XANES)分光法を行い,膜の相構造と酸化状態を同定した。堆積したままの膜はすべて非晶質で,厚さの増加(280~910Å)とは別に,それらの性質に大きな変化はなかった。真空(10~5Torr)中で400°C,5hで膜を加熱した後,種々の結晶相が発達した。酸素分圧のわずかな増加は,TiO_2膜の進化相における漸進的変換をもたらす。Ti_2O_3相はTi[Varghese et al 2001 Senser Actuator B Chem,8132-41]配位環境とTi3+酸化状態はO_2分圧0.015で検出されたが,Ti[Mosqueraら2014]配位環境とTi4+酸化状態はそれぞれ0.02と0.04O_2分圧で観察された。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  *XANES ,  *酸素 ,  *チタン ,  成長解析 ,  X線吸収端 ,  *分圧 ,  *薄膜成長 ,  マグネトロンスパッタリング ,  非晶質 ,  構造特性
準シソーラス用語： 結晶相 ,  酸化状態 ,  酸素含有量 ,  X線反射率 ,  *酸素分圧 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： XANES ,  酸素分圧 ,  スパッタ ,  薄膜 ,  成長解析