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J-GLOBAL ID：202002218207119706   整理番号：20A2711523

相対論的振幅による円偏光電磁波発生のためのプラズマ概念【JST・京大機械翻訳】

Plasma concept for generating circularly polarized electromagnetic waves with relativistic amplitude

著者 (4件)： Sano Takayoshi (Institute of Laser Engineering, Osaka University, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Tatsumi Yusuke (Institute of Laser Engineering, Osaka University, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Hata Masayasu (Institute of Laser Engineering, Osaka University, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Sentoku Yasuhiko (Institute of Laser Engineering, Osaka University, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
資料名： Physical Review. E  (Physical Review. E)
巻： 102  号： 5  ページ： 053214  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0493A  ISSN： 2470-0045  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 磁化プラズマ中の円偏光(CP)電磁波の伝搬特性をプラズマ密度と磁場強度により決定した。この特性は,強い短パルスレーザ用のユニークなプラズマフォトニックデバイスの設計に適用できる。数値シミュレーションにより,外部磁場下の薄いプラズマ箔が偏光板として働き,逆方向に移動する二つのCP波に直線偏光レーザを分離することを示した。このプラズマフォトニックデバイスは相対論的振幅でも強いCP波を発生させる利点を有する。種々の研究目的のために,強いCP光は,実験室で高いエネルギー密度プラズマを作り出すために強く必要とされる。Copyright 2020 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *プラズマ ,  *電磁波 ,  プラズマ密度 ,  *相対論 ,  エネルギー密度 ,  *円偏光 ,  直線偏光 ,  *電磁波放射 ,  伝搬特性 ,  外部磁場 ,  磁化プラズマ
準シソーラス用語： 数値シミュレーション ,  フォトニックデバイス ,  磁場強度 ,  短パルスレーザ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： プラズマ中の電磁波  (BJ02032F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 振幅 ,  円偏光 ,  電磁波発生 ,  プラズマ ,  概念