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J-GLOBAL ID：202002218531899877   整理番号：20A0667611

XUV波長範囲におけるイメージングプレート絶対校正【JST・京大機械翻訳】

Imaging Plate Absolute Calibration in the XUV Wavelength Range

著者 (5件)： Gajdos P. (Institue of Plasma Physics CAS, Prague 8, Czech Republic) ,  Kozlova M. (Institue of Plasma Physics CAS, Prague 8, Czech Republic) ,  Kozlova M. (Institute of Physics CAS, Prague 8, Czech Republic) ,  Krus M. (Institue of Plasma Physics CAS, Prague 8, Czech Republic) ,  Krus M. (Institute of Physics CAS, Prague 8, Czech Republic)
資料名： Springer Proceedings in Physics  (Springer Proceedings in Physics)
巻： 241  ページ： 103-106  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5066A  ISSN： 0930-8989  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 画像化Gajdos,P.(IP)は,多目的診断,Kozlova,M.は電磁Krusに抵抗性であり,M.は固体ターゲットとの高出力レーザパルス相互作用の間に出現する。放射レコーダとしてのIPは,再利用可能,高ダイナミックレンジ,大きな活性領域を含む利点を有している。それにもかかわらず,XUV波長範囲におけるIPs効率の絶対較正データはこれまで欠落している。PALS研究センターにおいて,著者らは,XUV波長範囲に敏感なBAS-TR IPの絶対較正を行った。IPsを較正CCDカメラによる交差較正により較正した。XUVパルスは高次高調波機構により発生した。これらのパルスの波長は20~40nmの範囲であった。さらに,XUV放射波長の関数としての絶対効率曲線を決定した。Copyright Springer Nature Switzerland AG 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 活性部位 ,  イメージングプレート ,  高調波 ,  *波長 ,  記録装置 ,  CCDカメラ ,  レーザパルス ,  パルス ,  相互作用
準シソーラス用語： 効率曲線 ,  高出力 ,  画像化 ,  *波長領域 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  放射線検出・検出器  (AD08020J)

タイトルに関連する用語 (2件)： 波長範囲 ,  イメージングプレート