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J-GLOBAL ID:202002218613546708   整理番号:20A0595194

窒化アルミニウムと3C-SiCバッファ層を用いた微斜面Si(001)基板上に成長させた半極性窒化ガリウム層における転位反応【JST・京大機械翻訳】

Dislocation Reactions in a Semipolar Gallium Nitride Layer Grown on a Vicinal Si(001) Substrate Using Aluminum Nitride and 3C-SiC Buffer Layers
著者 (8件):
資料名:
巻: 61  号: 12  ページ: 2316-2320  発行年: 2019年 
JST資料番号: W0823A  ISSN: 1063-7834  CODEN: PSOSED  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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透過型電子顕微鏡を用いて,3C-SiC/Si(001)テンプレート上に水素化物気相エピタクシーにより成長させた厚い(14μm)半極性GaN層における+cと転位の相互作用を調べた。冷却中のBurgersベクトルb=[数式:原文を参照]による転位半ループの伝搬は,Burgersベクトルb=<0001>を持つ転位セグメントの形成を伴うBurgersベクトルb=[数式:原文を参照]との貫通転位との反応によりブロックできることを示した。このような反応の結果としての系のエネルギーの利得を理論的に推定した。転位線形張力の近似の範囲内で,この利得は~7.6eV/Åであり,長さ~600nmの新しい転位セグメントに対して~4keVを与えた。転位コアのエネルギーの寄与は~19.1keVと推定される。Copyright Pleiades Publishing, Ltd. 2019 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (4件):
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半導体の可視・紫外スペクトル  ,  励起子  ,  電子輸送の一般理論  ,  半導体のルミネセンス 

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