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J-GLOBAL ID：202002221004342513   整理番号：20A0790329

レーザ化学蒸着を用いたβ-Yb_2Si_2O_7とX_1/X_2-Yb_2SiO_5被覆の自己配向成長【JST・京大機械翻訳】

Self-oriented growth of β-Yb₂Si₂O₇ and X1/X2-Yb₂SiO₅ coatings using laser chemical vapor deposition

著者 (4件)： Ito Akihiko (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National University, 79-7 Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, 240-8501, Japan) ,  Sekiyama Masato (Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  Hara Tomohiro (Graduate School of Environment and Information Sciences, Yokohama National University, 79-7 Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, 240-8501, Japan) ,  Goto Takashi (Institute for Materials Research, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 46  号： 7  ページ： 9548-9553  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは,レーザ化学蒸着(レーザCVD)を用いて,高蒸着速度でのイッテルビウムけい酸塩膜の自己配向成長を実証した。β-Yb_2Si_2O_7,X1-Yb_2SiO_5およびX2-Yb_2SiO_5相は,それぞれ(001)_βおよび(110)_β,(100)_X1および(021)_X2および(221)_X2配向を優先した。自己配向成長は結晶学的特徴,すなわち各相におけるエッジ共有Yb-O多面体ネットワークと関連していた。β-Yb_2Si_2O_7およびX1/X2-Yb_2SiO_5膜の堆積速度は,それぞれ,1144~423および353~943μm h(-1)であった。ポストアニーリングは,β-Yb_2Si_2O_7とX2-Yb_2SiO_5が高温で安定相であり,得られた膜が空気中1673Kでのアニーリング後にそれらの円錐状と柱状構造を維持することを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 高温 ,  焼なまし ,  ケイ酸塩 ,  ネットワーク ,  イッテルビウム ,  *被覆 ,  円錐 ,  結晶学 ,  堆積速度
準シソーラス用語： 蒸着速度 ,  柱状構造 ,  ポストアニーリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： フィルム ,  表面 ,  シリケート ,  環境障壁コーティング

分類 (2件)： 発光素子  (NC03082G) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ化学蒸着 ,  自己 ,  配向 ,  成長