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J-GLOBAL ID:202002222228499752   整理番号:20A1070511

熱電層状酸化コバルトの原子層堆積【JST・京大機械翻訳】

Atomic layer deposition of thermoelectric layered cobalt oxides
著者 (2件):
資料名:
巻: 38  号:ページ: 032412-032412-6  発行年: 2020年 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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六方晶系CoO_2層,例えばNa_xCoO_2と[coca_3O_3]_0.62CoO_2(またはCa_3Co_4O_9)に基づく層状コバルト酸化物は有望な熱電材料である。ここでは,薄膜型のこれらの材料の原子層堆積(ALD)を調べた。特に前者の化合物では,NaとCoの両方がALD薄膜の成分としてほとんど挑戦されないので,これは自明ではない。著者らは,すべての金属成分と酸素源としてのオゾンに対してジケトナート前駆体を用いた。両方の場合において,O_2におけるポスト堆積熱処理を適用して,結晶コーティングを得た。プロセスは金属前駆体のパルス比に関して驚くほどロバストであることが分かった。2つのプロセスの間の著しい違いは,結果としての形態である:Ca_3Co_4O_9膜は高度に均一で滑らかであるが,Na_xCoO_2被覆は調べたすべてのx値に対してかなり独特の再現可能な10~20μmスケールのチャネル状島構造を示す。最後に,著者らは,以前に報告されていないそれらの化学的,構造的,物理的性質の詳細に対して,それらのALD Ca_3Co_4O_9膜を特性化した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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