文献
J-GLOBAL ID：202002222263557702   整理番号：20A2230333

P-232:有機発光ダイオードの損傷抵抗及び信頼性のある薄膜カプセル封じのためのレーザ支援プラズマ増強化学蒸着【JST・京大機械翻訳】

P-232: Laser Assisted Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition for Damage-Resistive and Reliable Thin Film Encapsulation of Organic Light Emitting Diodes
著者 (7件)：
An Kunsik

An Kunsik について

(Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea)

Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea について

, 
Lee Ho-Nyun

Lee Ho-Nyun について

(Surface Technology Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Incheon, 21999, Republic of Korea)

Surface Technology Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Incheon, 21999, Republic of Korea について

, 
Cho Kwan Hyun

Cho Kwan Hyun について

(Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea)

Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea について

, 
Lee Seung-Woo

Lee Seung-Woo について

(Department of Mechanical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, Republic of Korea)

Department of Mechanical Engineering, Hanyang University, Seoul, 04763, Republic of Korea について

, 
Choi Sung-Hwan

Choi Sung-Hwan について

(Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea)

Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea について

, 
Hwang David J.

Hwang David J. について

(Department of Mechanical Engineering, State University of New York, Stony Brook, NY, 11794, USA)

Department of Mechanical Engineering, State University of New York, Stony Brook, NY, 11794, USA について

, 
Kang Kyung-Tae

Kang Kyung-Tae について

(Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea)

Micro/Nano Process Group, Korea Institute of Industrial Technology (KITECH), Ansan, 15588, Republic of Korea について


資料名：
Digest of Technical Papers. SID International Symposium (Society for Information Display)  (Digest of Technical Papers. SID International Symposium (Society for Information Display))

Digest of Technical Papers. SID International Symposium (Society for Information Display) について


巻： 51  号： 1  ページ： 1572-1575  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0907A  ISSN： 0097-966X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
窒化ケイ素薄膜を193nmのArFエキシマレーザでレーザ支援プラズマ増強化学蒸着(LAPECVD)を用いて作製した。損傷抵抗と信頼できる薄膜カプセル化を達成するために,窒化けい素の堆積を,レーザ支援CVD(LACVD)とLACVD薄膜上で行ったLAPECVDの2段階で行った。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
*薄膜

薄膜 について

, 
半導体薄膜

半導体薄膜 について

, 
*信頼性

信頼性 について

, 
窒化

窒化 について

, 
*化学蒸着

化学蒸着 について

, 
窒化ケイ素

窒化ケイ素 について

, 
*薄膜成長

薄膜成長 について

, 
*プラズマCVD

プラズマCVD について


準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ArFレーザ

ArFレーザ について

, 
*有機EL素子

有機EL素子 について

, 
シリコン薄膜

シリコン薄膜 について

, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (4件)：
薄膜カプセル封じ

薄膜カプセル封じ について

, 
OLEDカプセル封じ

OLEDカプセル封じ について

, 
レーザ支援プラズマ増強化学蒸着

レーザ支援プラズマ増強化学蒸着 について

, 
化学蒸着

化学蒸着 について

分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
その他の無機化合物の薄膜 
(BK14060A)

その他の無機化合物の薄膜 について

,  太陽電池 
(NC03084O)

太陽電池 について

タイトルに関連する用語 (7件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
有機発光ダイオード

有機発光ダイオード について

, 
損傷抵抗

損傷抵抗 について

, 
薄膜

薄膜 について

, 
カプセル封じ

カプセル封じ について

, 
レーザ

レーザ について

, 
支援

支援 について

, 
プラズマ増強化学蒸着

プラズマ増強化学蒸着 について


前のページに戻る

TOP

BOTTOM