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J-GLOBAL ID:202002224272299900   整理番号:20A0032456

二重および三重ゲートトンネル電界効果トランジスタに及ぼすポケット固有ドーピングの影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Pocket Intrinsic Doping on Double and Triple Gate Tunnel Field Effect Transistors
著者 (2件):
資料名:
巻: 602  ページ: 249-258  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5070A  ISSN: 1876-1100  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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マルチゲートトンネル電界効果トランジスタ(TFET)のソースチャネル接合におけるバンド間トンネリングは,短チャネル効果(SCE)を除去するためのON電流をブーストするための主要な役割を果たす。本論文では,従来の二重ゲートTFET構造(DG-TFET)を設計し,三重ゲートTFET(TG-TFET)を設計するためにゲートエンジニアリングを適用することにより修正した。本研究は,従来のDG-TFETとポケット固有層を有する提案TG-TFETの間を比較することによって,主にドレイン電流(I_ON)評価,高速スイッチング比(I_ON/I_OFF),およびサブ閾値スイング(SS)に焦点を合わせた。TFET性能に対する異なるポケット固有ドーピング条件に対するドレイン電流の変化をレビューし,SILVACO TCADシミュレータにより実証した。ポケット固有三重ゲートTFETは,1×10~20cm~3および1×10~15cm~3のソースおよびポケットドーピングに対して,より高いI_ONおよびより良いI_ON/I_OFF比5.51を示した。これは,他の非従来型トンネルFETと比較して,68.51%速いスイッチング比を提供した。しかし,TG-PI-TFETに対する10~0~10~18cm-3へのポケットドーピングの変化によりサブ閾値スイング(SS)は制限される。これはDG-PI-TFETが低電力応用に対する漏れ電流を考慮して23.93mV/dec(<60mV/dec)の良好なサブ閾値スイングを与えるからである。Copyright 2020 Springer Nature Singapore Pte Ltd. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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トランジスタ 
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