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J-GLOBAL ID:202002226534349198   整理番号:20A2007656

高温での窒化ガリウムへの注入プラセオジムの光ルミネセンス特性【JST・京大機械翻訳】

Photoluminescence properties of implanted Praseodymium into Gallium Nitride at elevated temperatures
著者 (9件):
資料名:
巻: 479  ページ: 7-12  発行年: 2020年 
JST資料番号: H0899A  ISSN: 0168-583X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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希土類(RE)ドープGallium Nitride(GaN)は,室温で電気的に駆動される単一光子源として用いられることが期待されるので,低線量REイオン注入と発光中心としてのそれらの活性化は興味深い。本論文は,室温から1200°Cまでの異なる温度でのプラセオジム(Pr)注入GaNの光ルミネセンス(PL)特性を報告する。すべてのPr注入GaN試料は,注入後に熱的にアニールされ,650.2nmと652.0nmに強いPL発光を示し,Pr3+イオンの4f殻における3P_0→3F_2遷移に起因した。Pr3+イオンに由来するPL強度は,1200°Cで焼なましたPr注入試料の注入温度が増加するにつれて減少した。この結果は,Pr3+イオンが複雑な欠陥と欠陥クラスタの形成により消光することを示唆する。GaN結晶性の回復に及ぼす高温注入の影響を臨界線量と変位損傷の観点から考察した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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半導体のルミネセンス 
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