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J-GLOBAL ID：202002228276069317   整理番号：20A2238697

ウェット熱処理によるZrO₂薄膜の特異な強誘電相発現機構

Abnormal ferroelectric phase formation mechanism of ZrO₂ thin film by wet annealing

著者 (5件)： 柴山茂久 (名大 院) ,  永野丞太郎 (名古屋大 工) ,  坂下満男 (名大 院) ,  中塚理 (名大 院) ,  中塚理 (名大 未来研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.14p-A303-8  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： [研究背景]既にDRAMにて応用されているZrO2をFeRAM応用へ展開するため,ZrO2の強誘電性orthorhombic(o)相の発現原理の理解と,その原理に基づく形成手法の開発が急務である.HfO2では従来,o相の発現は,monocl...【本文一部表示】

シソーラス用語： X線回折 ,  結晶化 ,  結晶構造 ,  高温 ,  真空蒸着 ,  低温 ,  電場 ,  *熱処理 ,  *薄膜 ,  アルミニウム ,  *ジルコニウム ,  窒素 ,  *酸化ジルコニウム ,  強誘電性 ,  酸化ハフニウム

分類 (1件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 熱処理 ,  ZrO2 ,  薄膜 ,  発現