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J-GLOBAL ID:202002229844883664   整理番号:20A1311370

複合量子ビーム超高圧電子顕微鏡を用いた複合照射(イオンビーム,電子線,レーザー)による無機ナノ構造の形成とその場観察

In-situ observation of inorganic nanostructures by combined irradiation (ion beam, electron beam, laser) using multi quantum beam high voltage electron microscope
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号: 107  ページ: 49-57 (WEB ONLY)  発行年: 2019年04月26日 
JST資料番号: U0181A  ISSN: 2188-0115  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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電子顕微鏡の照射系に収差補正装置を適用し観察対象の原子サイズ以下の極限まで電子ビームを絞るプローブコレクターと高精度の電子エネルギー損失分光器を備えた走査透過型電子顕微鏡(STEM/EELS)が実用化されてから,瞬く間に最先端の研究ツールとして世界中の様々な分野に導入され多くの成果をあげている.一方,超高圧電子顕微鏡は,日本と韓国以外では新しい装置の導入がなされていないが,それらによって全て置き換わるとは考えていない.なぜなら,例え収差補正装置によって非弾性散乱電子を除き厚い試料のボケの無い観察がある程度で可能になったとしても,200kV-300kVでは透過が難しいほどの厚い省の場合は,1MVを超える高い加速電圧を有し,試料室周りの自由度が高く原子レベルの分解能を有する超高圧電子顕微鏡は,今後もその場観察やオペランド観察が行える顕微鏡として重要な役割を担うと考えられる.そこで,本学の複合量子ビーム超高圧電子顕微鏡について紹介するとともに複合量子ビーム超高圧電子顕微鏡を用いた複合照射(イオンビーム,電子線,レーザー)による無機ナノ構造の形成とその場観察について紹介する.(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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固体の表面構造一般  ,  顕微鏡法 

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