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J-GLOBAL ID：202002230559678585   整理番号：20A2566330

RFスパッタリング法を用いて作製した硫化亜鉛薄膜の特性評価【JST・京大機械翻訳】

Characterization of Zinc Sulphide thin films prepared using RF-sputtering technique

著者 (2件)： Radhakrishnan Ranjini (Department of Physics, K.E. College, Mannanam, Kottayam 686561, Kerala, India) ,  Mahadevan Pillai V.P. (Department of Optoelectronics, University of Kerala, Thiruvananthapuram 695581, Kerala, India)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 33  号： P2  ページ： 1371-1378  発行年： 2020年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ結晶亜鉛硫化物(ZnS)薄膜をRFマグネトロンスパッタリング法によりガラス基板上に合成した。構造,形態及び光学特性に及ぼす堆積パラメータ及び堆積後熱アニーリングの影響を詳細に研究した。X線回折研究は,結晶粒の優先方位によって示される結晶完全性と共に膜のナノ結晶の性質を明らかにした。薄膜はRF出力100W~250Wで調製した。固定RFパワーで3つの異なるスパッタリング時間(10,20,30分)で堆積も行い,ZnS薄膜の構造的および光学的特性に及ぼす熱アニーリングの影響を調べた。膜を,X線回折(XRD),走査Electron顕微鏡,およびUV-可視分光によって特性評価した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  光学的性質 ,  スパッタリング ,  *薄膜 ,  X線回折分析 ,  *硫化亜鉛 ,  結晶粒 ,  RFスパッタリング ,  優先配向 ,  完全性 ,  ナノ結晶
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  RF出力 ,  熱アニーリング ,  可視分光法 ,  RFマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 薄膜 ,  RFスパッタリング ,  硫化亜鉛 ,  光学特性 ,  表面形態 ,  XRD

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： RFスパッタリング ,  作製 ,  硫化亜鉛 ,  薄膜 ,  特性評価