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J-GLOBAL ID：202002232136878130   整理番号：20A2223045

バイポーラ高出力マグネトロンスパッタリングの多診断研究:電気的パラメータの役割【JST・京大機械翻訳】

A poly-diagnostic study of bipolar high-power magnetron sputtering: role of electrical parameters

著者 (6件)： Michiels M (Materia Nova Research Center, 3 Avenue Nicolas Copernic, Parc Initialis, 7000 Mons, Belgium) ,  Michiels M (Chimie des Interactions Plasma-Surface (ChIPS), CIRMAP, Universite de Mons, 23 Place du Parc, B-7000 Mons, Belgium) ,  Godfroid T (Materia Nova Research Center, 3 Avenue Nicolas Copernic, Parc Initialis, 7000 Mons, Belgium) ,  Snyders R (Chimie des Interactions Plasma-Surface (ChIPS), CIRMAP, Universite de Mons, 23 Place du Parc, B-7000 Mons, Belgium) ,  Britun N (Chimie des Interactions Plasma-Surface (ChIPS), CIRMAP, Universite de Mons, 23 Place du Parc, B-7000 Mons, Belgium) ,  Britun N (Present address: Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya University, Chikusa-ku, 464-8603 Nagoya, Japan)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 53  号： 43  ページ： 435205 (12pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArガスとTiカソードを用いたバイポーラ高出力インパルスマグネトロンスパッタリング放電におけるイオン加速を調べた。ターゲットおよび基板電流プローブ測定,質量分析およびレーザ誘起蛍光を含む多重放電診断アプローチを実行した。特に,電流波形を詳細に解析し,負(プラズマ)と正電圧パルスの間の電流発生の特殊性を示した。正の電圧パルス中の基板電流は,印加された正の電位によってカソードから再パルスされた正イオンの2つのグループに示されるように,対応する2つのピークを明らかにした。これらの観察は,レーザー誘起蛍光イメージング技術によるいくつかの放電条件に対して行った二次元イオン密度マッピングと同様に,質量分析測定と良く相関した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン密度 ,  プラズマ ,  質量分析 ,  電位 ,  電流 ,  放電 ,  チタン ,  電流発生 ,  多重化 ,  カチオン ,  *パルス ,  二次元 ,  カソード
準シソーラス用語： レーザ誘起蛍光 ,  パルス電圧 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 気体放電  (BJ03020T) ,  ダイオード  (NC03050R)

タイトルに関連する用語 (7件)： バイポーラ ,  高出力 ,  マグネトロンスパッタリング ,  診断 ,  研究 ,  パラメータ ,  役割