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J-GLOBAL ID:202002232766455172   整理番号:20A2138589

タンニンニッケル鉄錯体の被覆によるWO_3/BiVO_4ヘテロ接合の光電気化学活性と安定性の促進【JST・京大機械翻訳】

Promoting Photoelectrochemical Activity and Stability of WO3/BiVO4 Heterojunctions by Coating a Tannin Nickel Iron Complex
著者 (4件):
資料名:
巻:号: 33  ページ: 12637-12645  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5047A  ISSN: 2168-0485  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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光アノードの強化された光電気化学(PEC)活性と安定性は,困難な課題として残っている。本研究では,多孔性タンニンニッケル鉄錯体被覆WO_3/BiVO_4ヘテロ接合(WO_3/BiVO_4@TANiFe)を構築し,PEC活性および安定性を向上させた。タイプIIヘテロ構造のin situ構築は,広い可視光利用と光生成キャリアの効率的な分離のために非常に有益である。さらに,超薄タンニンニッケル鉄ナノ層の無傷被覆は,水酸化の反応速度を加速するだけでなく,PEC反応中の光腐食から半導体を保護した。結果として,設計したWO_3/BiVO_4@TANiFe三元光電極は1.23V vs RHEで3.7mA cm-2という優れた光電流密度を示し,高い光電流密度でかなり強化された走行耐久性を示した。本研究は,太陽エネルギー変換応用のための高活性で安定な光アノードを開発するための合理的な経路を提供するであろう。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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電気化学反応 

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