文献

J-GLOBAL ID：202002233664584144   整理番号：20A1020970

高透過減衰位相シフトマスクによる先進メモリデバイスのための新しい改良計測法【JST・京大機械翻訳】

New improving metrology for advanced memory devices with high transmission attenuated phase shift mask

著者 (12件)： Chen Chia-Hung (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Tsao Sheng-Tsung (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Fan CongCong (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Du Jie (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Yang Richer (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Chou Asei (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Chen Kunyuan (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Chang Jimmy (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Zhang JunJun (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  He Wallace (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Zhang Leslie (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China)) ,  Xia YunSheng (ChangXin Memory Technologies, Inc. (China))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 11325  ページ： 113252U-10  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： より良い分解能を達成し,リソグラフィープロセスウィンドウを改善するために,デバイスメーカーは,高透過減衰位相シフトマスク(HTM)を検討または採用している。デバイスパターンの臨界寸法均一性(CDU)は,従来の減衰位相シフトマスクと比較して,高透過マスクにより非常に良くなり,それは,それを先進メモリ素子に対する魅力的な選択にする。しかしながら,それは,計測センサにより要求されるようなデバイスパターンとして異なる次元を持つ,アラインメントマークまたはマイクロ回折ベースのオーバレイ(uDBO)マークのような計測目標に対する挑戦を提起する。課題は,印刷性,検出可能性,精度,プロセス適合性,および同じデバイス層上の欠陥を含む。本論文では,これらの課題に取り組むための解決策を示し,それにより,HTMを有する高度なメモリデバイスに対する計測学を改善した。ウエハ上のマークコントラストを犠牲にすることなく,アラインメントマークのウエハ品質はアラインメントマークのようなアレイに対して10倍まで改善され,uDBOマークのスタック感度もアレイのようなアレイの7倍以上増加することができた。ターゲット設計,ターゲットOPC,およびレシピセットアップを含む全体的なターゲットアプローチを通して,最適なオンプロダクトオーバレイとデバイス収率のための正確な計測を達成することができる。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： アラインメント ,  回折 ,  *記憶装置 ,  コントラスト ,  印刷 ,  記憶素子 ,  分解能 ,  適応性 ,  生産者 ,  リソグラフィー ,  センサ
準シソーラス用語： レシピ ,  臨界寸法 ,  プロセスウィンドウ ,  *減衰位相シフトマスク , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 透過 ,  減衰位相シフトマスク ,  メモリデバイス ,  計測法