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J-GLOBAL ID:202002240462503686   整理番号:20A0436040

一方向要因設計を用いた半導体装置の予測保全アルゴリズムのクラスタ化パラメータ最適化【JST・京大機械翻訳】

Clustering Parameter Optimization of Predictive Maintenance Algorithm for Semiconductor Equipment Using One-way Factorial Design
著者 (2件):
資料名:
巻: 2019  号: ICCAS  ページ: 1219-1221  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,予測保全(PdM)技術を半導体製造装置に適用し,DBSCANアルゴリズムパラメータを最適化した。半導体装置から得られたデータを加速度センサを用いて得て,装置の条件を決定するために用いた。装置の誤動作条件をシミュレートするために,仮想誤差データを人工的に生成した。DBSCANクラスタリングアルゴリズムを,加速度センサデータと仮想誤差データの両方に適用して,各クラスタの中心点の移動を追跡した。中心点を追跡することによって,装置保全のための適切な時間を決定することができた。また,DBSCANアルゴリズムのパラメータを,保全の正確な時間を決定するために改良するために,一方向要因計画を用いて最適化した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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図形・画像処理一般 

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