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J-GLOBAL ID：202002240552282487   整理番号：20A2050617

ナノピラー構造を設けたシリコン製ベーパーチャンバに関する研究

Experimental study of integrated silicon vapor chamber with nano-pillar structured surface

著者 (4件)： 馬場宗明 (産業技術総合研) ,  澤田健一郎 (宇宙航空研究開発機構) ,  田中洸輔 (宇宙航空研究開発機構) ,  岡本篤 (宇宙航空研究開発機構)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.E123  発行年： 2020年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高発熱機器の温度制御を目的として,薄型ベーパーチャンバによる熱拡散デバイスの要素研究を実施した。シリコン表面にナノ~マイクロメートルオーダの高アスペクト比ピラー形成による濡れ性制御を適用し,気液挙動の制御による蒸発・凝縮伝熱促進を試みた。特に凝縮面に着目して,ピラー寸法,密度,アスペクト比等が凝縮液滴の発生,成長,合体時の液滴挙動に及ぼす影響を調べた。また,シリコンウエハの多層積層接合によるシリコン製ベーパーチャンバの試作状況について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *発熱体 ,  *温度制御 ,  熱拡散 ,  柱 ,  アスペクト比 ,  凝縮 ,  液滴 ,  濡れ
準シソーラス用語： 高アスペクト比

分類 (1件)： 熱交換器,冷却器  (PA03020G)

引用文献 (1件)：

• N. Miljkovic et al., Nano Letters 13-1(2013), 179-187.

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノピラー ,  シリコン ,  研究