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J-GLOBAL ID：202002244105251638   整理番号：20A0788468

高分子担持薄膜における電気測定からの有効亀裂長の決定【JST・京大機械翻訳】

Determining effective crack lengths from electrical measurements in polymer-supported thin films

著者 (5件)： Glushko O. (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria) ,  Glushko O. (Department of Materials Physics, Montanuniversitaet Leoben, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria) ,  Putz B. (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria) ,  Cordill M.J. (Erich Schmid Institute of Materials Science, Austrian Academy of Sciences, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria) ,  Cordill M.J. (Department of Materials Physics, Montanuniversitaet Leoben, Jahnstrasse 12, 8700 Leoben, Austria)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 699  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子支持薄膜における多重貫通亀裂の形成が電気抵抗の増加をもたらすことは明らかであるが,誘起亀裂密度に基づく抵抗成長の依存性を定量化する試みはまだ成功していない。本論文では,亀裂密度と亀裂長さの2変数多項式関数としての抵抗成長を表す最近開発された関係を用いて,ポリイミド上に10nmのCr接着層を有する250nm厚さのCu膜の単調および繰返し引張荷重によって誘起された亀裂パターンを解析した。変形中のその場抵抗と誘起亀裂の死後線形密度を知ることにより,機械的負荷により誘起された損傷の実験的特性化中にしばしば無視されるパラメータである有効亀裂長さを抽出することが可能であることを実証した。記述されたアルゴリズムは,時間がかかるin situ顕微鏡法と比較して非常に費用効果が高く,選択された表面積だけでなく,全体の試料の信頼性も反映している。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  *薄膜 ,  *電気測定 ,  多重化 ,  薄膜成長 ,  *亀裂 ,  アルゴリズム ,  多項式 ,  信頼性 ,  顕微鏡観察 ,  銅 ,  *高分子 ,  引張荷重 ,  クロム ,  引張試験 ,  ポリイミド

著者キーワード (6件)： 薄膜 ,  高分子基板 ,  亀裂長 ,  亀裂密度 ,  電気抵抗 ,  引張試験

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子担持 ,  薄膜 ,  電気測定 ,  亀裂長