文献

J-GLOBAL ID：202002244261878748   整理番号：20A0019751

吸収性Nb-Tiサブ酸化物反射防止薄膜スタックの作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of absorbing Nb-Ti suboxide anti-reflective thin film stacks

著者 (4件)： Shimabukuro Adam E. (Department of Materials Science and Engineering, College of Engineering, University of Washington, Seattle 98195, USA) ,  Ishii Akihiro (Department of Materials Science, Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Takamura Hitoshi (Department of Materials Science, Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Ohuchi Fumio S. (Department of Materials Science and Engineering, College of Engineering, University of Washington, Seattle 98195, USA)
資料名： Results in Physics  (Results in Physics)
巻： 15  ページ： Null  発行年： 2019年 
JST資料番号： W3368A  ISSN： 2211-3797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光を吸収する光学的黒色反射防止コーティングは,フラットパネルディスプレイ産業における色分離および画像技術における迷光低減に対して潜在的に有用である。ここでは,高性能多層ブラック反射防止コーティングの設計と製作について報告する。パルスレーザ蒸着(PLD)を用いて,薄膜亜酸化物Nb_xTi_1-xO_2,NbO_2およびTiO_2-xを調製した。次に,それらの光学定数を用いて,中程度の入射角でも可視域(400~700nm)を横切る2%以下の反射率を有する6層被覆を設計した。さらに,この6層被覆は,それを光学的に黒色にする可視域を通して,大きくて一定の吸光度を示した。この光学的挙動は,そのスペクトル的に一定の吸収係数のためにユニークな亜酸化物Nb_xTi_1-xO_2の使用によるものである。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  吸収係数 ,  スペクトル ,  迷光 ,  フラットパネルディスプレイ ,  入射角 ,  反射率 ,  被覆 ,  多層 ,  画像技術 ,  パルスレーザ蒸着 ,  光学定数 ,  反射防止膜 ,  吸光度 ,  *酸化物

著者キーワード (4件)： パルスレーザ蒸着 ,  反射防止コーティング ,  亜酸化物 ,  吸収コーティング

分類 (5件)： 放射線遮蔽  (MB04000R) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  核融合装置  (BJ02083Z) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (8件)： Nb ,  Ti ,  サブ ,  酸化物 ,  反射防止 ,  薄膜 ,  スタック ,  作製