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J-GLOBAL ID：202002244477973727   整理番号：20A1884618

RFマグネトロンスパッタリング法で作製したZnO多結晶薄膜の残留光電流特性に及ぼす酸素アシスト再結合の影響

Influence of oxygen assisted recombination on persistent photocurrent characteristics of ZnO polycrystalline thin films prepared by RF magnetron sputtering

著者 (6件)： Worasawat Suchada (Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan) ,  Worasawat Suchada (Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan) ,  Neo Yoichiro (Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan) ,  Hatanaka Yoshinori (Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan) ,  Pecharapa Wisanu (College of Nanotechnology, King Mongkut’s Institute of Technology Ladkrabang, Bangkok, 10520, Thailand) ,  Mimura Hidenori (Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59  号： 7  ページ： 075505 (8pp)  発行年： 2020年07月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高周波マグネトロンスパッタリング法で成膜した六方晶c軸方向に高度に配向した酸化亜鉛(ZnO)多結晶膜(0002)の持続光電流(PPC)の減衰特性を調べた。紫外線照射をオフにした後の光電流の長期減衰がPPCとして知られており,光デバイスや電気デバイスの性能に影響を与えていた。その結果,アルゴン雰囲気の場合と比較して,酸素雰囲気の影響を強く受けることがわかった。本研究で提案した現象論的モデルは,ZnO多結晶膜の表面を攻撃する酸素分子と電子・ホールが出会うまでの平均待ち時間から再結合係数を導き出すことができた。その結果,崩壊時間応答は,時定数τと分散パラメータβを持つ修正双曲線として説明された。実験結果は理論式に適合している。また,β値の平均値を用いて,酸素体積率に対するτの依存性を理論式と一致させ,酸素ガスの表面反応における分散過程を提示した。これらの研究は,光導電性センサー,ガスセンサー,光触媒電極などの応用に有用である。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *酸化亜鉛 ,  *薄膜 ,  *残留光伝導 ,  キャリア再結合 ,  酸素 ,  減衰特性 ,  紫外線照射 ,  雰囲気 ,  *多結晶薄膜 ,  アルゴン雰囲気 ,  酸素雰囲気
準シソーラス用語： RFマグネトロンスパッタリング ,  ZnO

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (10件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  ZnO ,  多結晶薄膜 ,  残留 ,  光電 ,  流特性 ,  酸素 ,  アシスト ,  再結合