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J-GLOBAL ID：202002247638098259   整理番号：20A1961611

界面活性剤添加KOHによるサブミクロントレンチの作製【JST・京大機械翻訳】

Fabrication of sub-micron trenches with surfactant-added KOH

著者 (3件)： Ekinci Huseyin (Institute for Quantum Computing, University of Waterloo, Erzincan Binali Yildirim University,Department of Physics and Astronomy, Department of Physics, Art & Science Faculty,Waterloo, Erzincan,Canada, Turkey,N2L 3G1) ,  Cui Bo (Electrical and Computer Engineering, University of Waterloo,Waterloo,Ontario,Canada,N2L3G1) ,  Pushin Dmitry (Institute for Quantum Computing, University of Waterloo,Department of Physics and Astronomy,Waterloo,Canada,N2L 3G1)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： NANO  ページ： 172-175  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノスケールの溝の作製のためのエッチングパラメータに及ぼす水酸化カリウム(KOH)に添加した界面活性剤の影響を,本研究で提示した。種々の量のジヘキシルナトリウムスルホネート(SDSS)界面活性剤をKOH溶液に添加してナノトレンチを作製し,トレンチ深さと幅に及ぼすそれらの影響を系統的に研究した。試験した全ての量に対するKOHへのSDSSの添加は,トレンチ深さの増加とトレンチ幅の減少をもたらし,両者はより良いアスペクト比とエッチ異方性をもたらした。用いた異なる界面活性剤量の中で,50wt%KOH中の0.04wt%SDSSの溶液は,最良のアスペクト比とエッチ異方性で,エッチング深さ均一性,最高のトレンチ深さと狭いトレンチ幅をもたらした。トレンチ深さは26.5μmから31.1μmに増加し,一方,トレンチ幅は50wt%KOH中で0.04wt%SDSSで564nmから361nmに減少した。その結果,エッチ速度異方性は133から317へ2倍以上増大した。これはKOHエッチング中の水素気泡放出を促進する界面活性剤に起因した。さらに,界面活性剤はトレンチ側壁の原子的に平滑なSi(111)表面に強く吸着し,横方向エッチング速度をかなり妨げる。アニオン界面活性剤分子とヒドロキシルイオン間の静電反発もエッチング速度の減少の要因であった。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 異方性 ,  エッチング ,  気泡 ,  水素 ,  アスペクト比 ,  *界面活性剤 ,  水酸化カリウム ,  陰イオン界面活性剤 ,  水酸化物イオン
準シソーラス用語： エッチング速度 ,  ナノスケール ,  トレンチ ,  シリコン(111) , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (3件)： 界面活性剤 ,  KOH ,  作製